HiPIMS 应用的首选
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可作为直流溅射电源的替代方案，无需改动即可用于现有磁控系统。其提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜，因此是高功率脉冲磁控溅射应用的首要之选。
高达 4 兆瓦的最佳峰值功率以较高的离子流量产生非常密集的等离子体。
轻松适配现有阴极系统和工艺条件实现最佳设备集成。
作为最先进的脉冲式 PVD 溅射工艺，HiPIMS 可提供特别抗腐蚀又耐磨损的硬质镀膜。
亦可用于直流电模式，无需额外的直流发生器。
硬质镀膜
通过施加功能性涂层，承受强大负荷的工件获得更高的表面硬度和静摩擦力以及更好的热稳定性与化学稳定性。TruPlasma Bias 4000 (G2) 系列发生器确保极其稳定的等离子体工艺和卓越的涂层质量。
半导体/光伏
在光伏和半导体领域，定制化工艺电源有诸多应用范围。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可最佳适配相应工艺，实现出色的工艺结果和高生产效率。
玻璃镀膜
在 PVD 等离子体工艺中，大面积的建筑玻璃镀膜对工艺电源提出了极高要求。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器为取得高质量的镀膜成果提供理想前提。
最佳工艺成果
高峰值功率产生高度离子化的等离子体并实现高离子流量。由此可取得非常连贯且致密的薄膜并避免微滴。若与极化基板配置相结合，则 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列发生器可以在刻蚀、沟填应用中提供出色结果。
全数字化电弧管理
可调脉冲宽度与频率、扩展性能参数和具有极少电弧能量的全数字化电弧管理实现无液滴溅射、最低限度的薄膜缺陷并保证较高的涂层质量和沉积速率。
出色的镀膜
凭借高能量与高达 2 kV 的电压，可以制造出高质量的镀膜——无论是在小型实验室里还是在大型工业设施中。可达 5 ms 的脉冲与最高 10 kHz 的频率提高了沉积速率，因此有助于降低总体经营成本。
高工艺稳定性
凭借可调频率的功率调节器确保沉积参数在高要求的反应工艺中也能保持恒定。因此，工艺得以在几小时甚至几天内保持稳定，无需人为介入。
紧凑型单元
TruPlasma Highpulse 系列发生器是一个紧凑型单元。其无需外部直流电源，采用全水冷设计，因此得以在洁净室内工作。
不同选项确保 Tru Plasma Highpulse 4000 (G2) 系列以最佳方式适配您的应用。
具有极少电弧能量的全数字化电弧管理实现较高的涂层质量和沉积速率。
PVD Power
多语种软件 PVD Power 用户界面易操作，提供多方面的操作、配置及诊断方法，以此优化工艺质量和有效排除故障：显示所有相关工艺参数的实际值以及警告和报警消息、由操作员规定目标值和以较高的时间分辨率记录重要运行参数并进行可视化（示波器功能）。
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