用於產生極高電漿密度和滿足嚴苛製程要求的穩定而強大的固態功率電漿產生器
TruPlasma MW系列產生器採用固態技術,作為基於磁控管的微波產生器顯著提高頻率精度。創新的平台理念可以高效且經濟地實現極高的電漿密度和滿足非常嚴苛的製程要求。此外,模組化結構實現精確縮放輸出功率。隨時保持穩定供電,對製程品質沒有任何影響。在半導體、太陽能電池和顯示器製造中,TruPlasma MW系列透過先進的製程功能確保最佳成果和卓越的可靠性。
創新的納秒級脈動實現出色的電漿製程控制。
自動頻率調整確保最佳製程成果和較高的可再現性。
在多天線系統中,不同產生器可以同相運行和脈動。透過單個產生器之間相位基準的變化可實現大面積的電漿均勻性。
您可以信賴產生器的功能 – 即使失調也不會影響製程品質。
您可以得益于高精度的數位調頻,其確保可再現的製程成果、卓越的分層品質和生產效率。
透過數位介面EtherCat可以在一毫秒內迅速控制裝置。由此實現精確的電漿分佈。
![](https://media.trumpf.com/m/2e3daf9f9d430b71/original/TruPlasma-MW-1000-3000-5000-Derivat-512x341-Solar.jpeg?w=1170&h=677)
太陽能電池製造
在光伏領域,電漿製程(如濺射或PECVD)用於材料塗覆和去除。 TruPlasma MW系列產生器可快速適應不同製程,並保證出色的生產效率以及一流的製程成果。 憑藉精確的能量計量,在最先進、要求最高的應用中也能取得最佳成果。 高精度的功率控制實現最佳的晶圓到晶圓可重複性。
![](https://media.trumpf.com/m/32d57476db4fd59e/original/TruPlasma-MW-Serie-1000-3000-5000-Belichtungsindustrie-Derivat-512x341.jpg?w=1170&h=677)
半導體製造
電漿產生器可用於各種製造半導體的電漿製程 – 從幹法刻蝕到製造矽片的區域熔煉。 我們的TruPlasma MW系列為所有這些製程提供優化電源
![](https://media.trumpf.com/m/5fc24460b47fec0a/original/Three-Displays-Derivat-512x341.jpg?w=1170&h=677)
平板顯示器鍍膜
在平板顯示器鍍膜方面,我們的TruPlasma MW產生器可以在電漿製程(如PECVD、ALD和RIE)中發揮優勢。
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