极佳工艺结果的保障
此类高频电源防患于未然：TruPlasma RF 3000 系列因坚固结构与卓越效率而出众。因此，其最佳适用于稳定且可再现的等离子体工艺，例如应用于纯平显示屏、太阳能电池或半导体制造。这些电源安装在全球数以千计的应用中，以确保卓越的生产效率和出色的工艺结果。
高达 80 % 的能量转换率能够缩减最多 50 % 的能源成本。
即便是高要求的新型工艺流程，也能可靠控制。
CombineLine 技术：失调情况下可靠避免反射功率影响。
采用连续式或脉冲式功率输出，从而实现多样化应用。
刻蚀与镀膜工艺
TruPlasma RF 3000 系列的高频发生器尤其适合刻蚀与镀膜工艺，如等离子体刻蚀、反应离子刻蚀、ALD 及 PECVD。
金属工件镀膜
借助等离子体进程，既可将材料施加到表面上也可将其去除，例如利用等离子体刻蚀或光刻胶等离子体灰化法为金属工件涂覆耐磨层或者电子元件结构化。
纯平显示屏与太阳能电池镀膜
TruPlasma RF 3000 系列高频电源理想适用于如 RIE（反应离子刻蚀）、ALD（原子层沉积）、PECVD（等离子体增强化学气相沉积）和射频溅镀法等等离子体工艺流程。这些工艺主要应用于纯平显示屏与太阳能电池镀膜。
极高效率与工艺稳定性
通过出色的效率使功率损耗减半并降低冷却水成本——从而让您的运行成本最小化。即使工艺条件严苛，十分坚固的电源结构仍允许较长的运行时间，由此提高沉积速率。通过真正具有 50 Ω 输出阻抗的 CombineLine 技术有效防止等离子体波动——从而实现绝对稳定的工艺。
任何情况绝对可靠
坚固结构确保最高流程可靠性和生产效率。100 % 失调保护确保在极端负载下仍然稳妥运行。可选的连续式或脉冲式功率输出支持广泛的工艺要求。在全球范围内已安装 20,000 多个单元——超过任何其他等离子体电源。
通快 SystemPort
SystemPort 通过直接测量阻抗匹配器输入端和输出端上的 RF 信号，形成闭环控制回路。RF 发生器可使用所有测量值。由此实现更好的工艺流程参数监测，保护阻抗匹配器并确保及早识别电弧。可通过单一的发生器接口控制整个 RF 系统。
各种选项可以实现高频电源根据应用进行最佳适配。
精湛的电弧管理是适用于最佳等离子体工艺流程控制的理想模块。有针对性的电弧识别确保最高生产效率，同时保护产品与设备。
TruControl Power
易于操作的控制软件 TruControl Power 实现在工艺运行中便捷调试和可靠监控高频发生器或整个通快 RF 系统。
通快 RF 系统的所有组件相互最佳协调。
完美相互协调：电源与阻抗匹配器
等离子体工艺就像一个复杂可变的负载，必须通过电源为其不断供电。这项工作由有源匹配网络（所谓的阻抗匹配器）来完成，确保随时精确匹配 50 Ω 的最佳阻抗。由此形成相互完美协调的系统解决方案——通快 RF 系统。通过不同接口（如 EtherCAT）可十分轻松地将发生器和阻抗匹配器集成至现有工艺环境之中，并通过发生器与阻抗匹配器的智能连接（即所谓的 SystemPort）形成经优化的系统解决方案。
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