等离子体电源

TruPlasma MW 系列的固态等离子发生器采用创新的平台概念，可产生超高的等离子密度，以满足苛刻的工艺要求。借助纳米脉冲，可以针对所需应用优化设置各种等离子体参数。

在太阳能电池与半导体制造、耐磨装饰涂层涂覆以及建筑玻璃镀膜中，TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工艺电源凭借其灵活可塑的输出信号和精湛的电弧管理提供出色结果。最新一代发生器尤其适合高要求的等离子体工艺，如反应溅射、PVD 和 PECVD。

使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中频电源可始终完全掌控工艺流程：即便在要求严苛的大面积镀膜应用中，仍能最终获得出色的涂层质量和极高的生产效率。与此同时，凭借超过 90 % 的顶尖能量转化率，此款新一代供电系统确保极高的运行经济性。

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列的工艺电源提供尤为抗腐蚀且耐磨损的硬质镀膜，是 HIPIMS 应用的首要之选。若与极化基板相结合，TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列还能服务于半导体应用，如沟填、表面预处理和刻蚀。

TruPlasma DC 4000 (G2) 系列将 TRUMPF 霍廷格电子的出色电弧处理和直流脉冲技术优势集于一身。由此实现更佳的镀膜结果，提高沉积速率的同时减少损坏。最终获得光亮表面和高生产效率。

作为新一代直流电源，TruPlasma DC 3000 (G2) 系列适合众多直流溅射工艺。得益于先进的电弧管理和集成水冷装置，该款直流电源同样可用作脉冲式直流电源的高性价比替代方案。此外，极其紧凑的结构使其方便集成至现有应用中。

TruPlasma Arc 3000 系列电源主要用于硬质镀膜和装饰镀膜。通过紧凑型结构和空气冷却装置，确保充分利用宝贵的有效面积并方便集成至新系统或现有系统之中。

气冷型高频电源 TruPlasma RF 1001 Air 可提供高达 1000 瓦特的高频能量，其精度高、可再现且分辨率极为精细（以 100 mW 递增），因而适用于丰富多样的等离子体应用。无论是半导体制造、太阳能电池制造还是显示屏制造——得益于先进的工艺流程功能，已获专利的 TRUMPF 霍廷格电子技术可在各个领域确保最高可用性和最佳工艺结果。

TruPlasma RF 1000 / 3000 (G2/13) 系列是最新一代的高频电源。得益于已获专利的 CombineLine 耦合技术或所有加工过程参数的实时测量等创新功能，即使在要求严苛的等离子体工艺中仍可确保可靠供电——这是可再现结果和高生产效率的最佳前提条件。

性能强劲的TruPlasma RF 3000 系列高频电源因极其高效和高工艺流程稳定性而出众。因此，其理想适用于高要求等离子体工艺，例如应用于纯平显示屏、太阳能电池或半导体制造。用于阻抗适配的阻抗匹配器与电源准确协调，随时确保从电源至等离子体的最佳稳定功率传输。

确保最高流程功率：TruPlasma VHF 3000 系列电源基于创新型平台理念，甚至满足极为严苛的工艺流程要求。VHF 电源的模块化纯水冷结构可将输出功率最高扩展至 80 kW，同时确保所用空间最小！

精确适配高频电源的输出阻抗，对于最佳控制等离子体工艺流程至关重要。这项工作由 TruPlasma Match 1000 (G2/13) 系列阻抗匹配器完成，其可作为电源与工艺流程间的链节。以此种方式生成用于工艺流程电源的整体解决方案——通快 RF 系统。