Với Plasma kết hợp cảm ứng (ICP), nhiệt độ tại áp suất khí quyển có thể đạt tới 10.000 độ C. Trong đó, khí plasma phải được đưa vào trạng thái kết tập thứ tư. Để bắt đầu, bắt buộc phải có một nguồn đốt - gia nhiệt hoặc với điện áp cao . Điều này tạo ra các hạt mang điện tự do đầu tiên, sau đó được gia tốc trong vùng từ trường cuộn từ cảm với điện áp cao và dẫn tới sự ion hóa dạng thác của khí plasma. Kết quả là một Plasma dẫn điện được có thể tiếp tục được gia nhiệt cảm ứng.
Các khí plasma phổ biến là argon, ni tơ, hydro, oxi và các khí hỗn hợp của chúng. Các ứng dụng mang ý nghĩa nhất là hình cầu hóa các hạt kim loại, kích hoạt bề mặt thủy tinh, làm sạch (tinh chế) các khối silicon nóng chảy, sản xuất các hợp chất gốm kim loại và quang phổ. Máy phát với công nghệ ống của TRUMPF Hüttinger cung cấp công suất tin cậy tới 120kW tại tần số từ 2 – 3MHz cho ứng dụng này.