Medya araçlarına yansıyan EUV litografi

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

Golem.de internet sayfasında yayınlanan bu yazıda yazar Marc Sauter, Samsung Foundry'nin aşırı ultraviyole ışınım (EUV) ile  5-nm yöntemini geliştirme aşamasını  tamamladığını ve bugünden itibaran müşterilerden siparişleri kabul edebileceklerini belirtiyor. Bu yeni yöntem ile transistör yoğunluğu %25 oranında arttırılabilmekte ve aynı anda çipler %20 oranında daha az enerji tüketmekte veya %10 daha yüksek işleme hızına sahip olabilmektedir.

Kaynak: www.golem.de
Yazar: Marc Sauter
Yayınlanma tarihi: 04/2019
Bağlantı: yazıya gitmek için

"Heise.de" sayfasındaki yazıda, Samsung şirketinin 2018 sonbaharında ilk 7-nm fabrikasında üretime başladığı ve wafer'lerin fabrikada, ASML EUV litografi sistemiyle pozlandığı aktarılıyor. Kaynak: www.heise.de
Yazar: Nico Ernst
Yayınlanma tarihi: 10/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

TRUMPF 2017/2018 Faaliyet Raporu'nda, ışık ve ışıkla beraber lazer ve EUV litografi alanlarındaki hakimiyetin, yapay zeka, sürücüsüz ulaşım ve bir ağa bağlanmış fabrikalar gibi gelecek teknolojilerinin temelini nasıl oluşturduğu anlatılıyor.

Kaynak: TRUMPF 2017/2018 Faaliyet Raporu
Yazar: TRUMPF GmbH + Co. KG
Yayınlanma tarihi: 10/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

"golem.de" sayfasındaki yazıda, ASML'in NXW:3400B-sistemlerini önemli ölçüde iyileştirmiş olduğu ve bu sayede de ekstrem ultraviyole ışının kullanıldığı, maliyet ve zaman açısından daha etkin bir seri üretimin artık ulaşılabilir bir gelecekte yer aldığı ifade ediliyor. Kaynak: www.golem.de
Yazar: Marc Sauter
Yayın tarihi: 07/2018
Bağlantı: yazıya gitmek için

LaserFocusWorld'deki yazıda EUV teknolojisinin yirmi yılı aşan gelişim tarihçesi hakkında bilgi veriliyor, 2015 yılındaki dönüm noktasına gelinene kadar aşılması gereken sayısız engel ve güçlükler anlatılıyor.

Kaynak: LaserFocusWorld
Yazar: Andreas Thoss
Yayınlanma tarihi: 11/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

"Produktion" (Üretim) uzmanlık dergisindeki rapor, Access firması hisselerinin çoğunluğunun TRUMPF tarafından satın alınmasıyla gerçekleşen devirle ilgili. Low-Power-CO₂ lazerleri üreticisi olan Access Laser şirketi, TRUMPF'ın EUV alanındaki en önemli ortaklarından biri. Yazar: www.optics.org
Yazar: belirtilmemiş
Yayın tarihi: 10/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

"Stuttgarter Zeitung" gazetesindeki haberde, TRUMPF'ın "Laser Amplifier" ürünüyle nasıl yarı iletken endüstrisine ara mal tedarikçisi olarak giriş yaptığı ve bu iş alanı için bir alt firma kurduğu aktarılıyor. Kaynak: "Stuttgarter Zeitung" Gazetesi
Yazar: Michael Heller
Yayın tarihi: 05/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için

Haftalık elektronik dergisi "Markt&Technik" yayınındaki yazıda, ASML şirketinin güncel ve planlanan ciro ve satış rakamları sunuluyor ve bu sayılara dayanarak EUV litografinin artık endüstride sağlam bir yerinin olduğu ifade ediliyor. Kaynak: Markt&Technik
Yazar: Heinz Arnold
Yayınlanma tarihi: 07/2017
Bağlantı: yazıya gitmek için