มุมมองของสื่อ: EUV ลิโธกราฟฟี

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

ในบทความนี้ที่ Golem.de ผู้เขียน Marc Sauter รายงานว่า Samsung Foundry &ได้ทำการพัฒนากระบวนการ 5 nm& ด้วยรังสีอัลตราไวโอเลตกำลังสูงมาก (EUV) เสร็จสิ้นแล้ว และรับงานจากลูกค้าตั้งแต่บัดนี้เป็นต้นไป ด้วยกระบวนการใหม่ ๆ ความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์สามารถเพิ่มขึ้น 25 % และในเวลาเดียวกันชิพใช้พลังงานลดลง 20 % หรือมีกำลังการคำนวณสูงขึ้น 10 %

แหล่งข้อมูล: www.golem.de
ผู้เขียน: Marc Sauter
วันที่ลงข่าว: 04/2019
ลิงก์:&ไปยังบทความ

Heise.de รายงานในบทความนี้ว่าในฤดูใบไม้ร่วงปี 2018 Samsung ได้ทำการผลิตในโรงงาน 7 nm แห่งแรกของบริษัทและฉายรังสีแผ่นเวเฟอร์ด้วยระบบการEUV ลิโธกราฟฟี ของ ASML แหล่งข้อมูล: www.heise.de
ผู้เขียน: Nico Ernst
วันที่ลงข่าว: 10/2018
ลิงก์: ไปยังบทความ

รายงานประจำปีของ TRUMPF ปี 2017/2018 แสดงให้เห็นว่าความสามารถในการควบคุมลำแสง และรวมถึงเลเซอร์และ EUV ลิโธกราฟฟี จะเป็นพื้นฐานสำหรับเทคโนโลยีในอนาคต เช่นเดียวกับปัญญาประดิษฐ์ การขับขี่แบบไร้คนขับ และโรงงานที่เชื่อมต่อเครือข่าย

แหล่งข้อมูล:&รายงานประจำปีของ TRUMPF ปี 2017/2018
ผู้เขียน:&TRUMPF GmbH + Co. KG
วันที่ลงข่าว: 10/2018
ลิงก์: ไปยังบทความ

บทความที่ golem.de ประกาศว่า ASML ได้ปรับปรุงระบบ NXW:3400B ของบริษัทอย่างมีนัยสำคัญ ด้วยการใช้รังสีอัลตราไวโอเลตกำลังสูงมากจะช่วยให้ลดต้นทุนการผลิตและเพิ่มประสิทธิภาพในการบริหารเวลาสำหรับการผลิตในปริมาณมากนั้นใกล้ความเป็นจริงมากขึ้น แหล่งข้อมูล: www.golem.de
ผู้เขียน: Marc Sauter
วันที่ลงข่าว: 07/2018
ลิงก์: ไปยังบทความ

ในบทความนี้ LaserFocusWorld ติดตามเส้นทางการพัฒนามากกว่ายี่สิบปีของเทคโนโลยี EUV และบรรยายถึงอุปสรรคและความท้าทายที่ต้องเอาชนะก่อนที่จะประสบความสำเร็จในปี 2015

แหล่งข้อมูล: LaserFocusWorld
ผู้เขียน: Andreas Thoss
วันที่ลงข่าว: 11/2017
ลิงก์: ไปยังบทความ

รายงานนี้ในนิตยสารวิชาการ "การผลิต" มีเนื้อหาเกี่ยวกับการเข้าถือครองสัดส่วนใหญ่ของ Access โดย TRUMPF ในฐานะผู้ผลิตเลเซอร์ CO₂ พลังงานต่ำ Access Laser เป็นพันธมิตรที่สำคัญของ TRUMPF ในธุรกิจ EUV แหล่งข้อมูล: www.optics.org
ผู้เขียน: n.N.
วันที่ลงข่าว: 10/2017
ลิงก์: ไปยังบทความ

Stuttgarter Zeitung รายงานว่า TRUMPF ได้ก้าวสู่การเป็นซัพพลายเออร์ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ด้วยตัวขยายความเข้มของแสงเลเซอร์และได้จัดตั้งบริษัทลูกแห่งใหม่สำหรับธุรกิจนี้ แหล่งข้อมูล: Stuttgarter Zeitung
ผู้เขียน: Michael Heller
วันที่ลงข่าว: 05/2017
ลิงก์: ไปยังบทความ

บทความในหนังสือพิมพ์รายสัปดาห์สำหรับ "เทคโนโลยีตลาด" อิเล็กทรอนิกส์ สรุปตัวเลขยอดขายและยอดขายในปัจจุบันและที่วางแผนไว้ของ ASML ซึ่งแสดงให้เห็นว่าEUV ลิโธกราฟฟี ได้มาถึงอุตสาหกรรมแล้ว แหล่งข้อมูล: เทคโนโลยีตลาด
ผู้เขียน: Heinz Arnold
วันที่ลงข่าว: 07/2017
ลิงก์: ไปยังบทความ