V zrkadle médií: Litografia EUV

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

V tomto článku na stránke Golem.de popisuje autor Marc Sauter, že spoločnosť Samsung Foundry ukončila vývoj 5-nm procesu s extrémnym ultrafialovým žiarením (EUV) a spustila príjem objednávok od zákazníkov. Pomocou nového procesu je možné zvýšiť hustotu tranzistorov o 25 %, čipy súčasne vykazujú o 20 % nižšiu spotrebu energie resp. o 10 % vyšší počítačový výkon.

Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 04/2019
Odkaz: k článku

Heise.de v tomto článku oznamuje, že spoločnosť Samsung spustila v jeseni 2018 výrobu vo svojom prvom 7-nm závode a tam osvituje doštičky pomocou litografických systémov EUV od ASML. Zdroj: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Správa o hospodárení TRUMPF 2017/2018 objasňuje, ako ovládnutie svetla - a tým aj lasera a EUV litografie - poskytuje základy pre technológie budúcnosti akými sú umelá inteligencia, autonómne vozidlá a zosieťované závody.

Zdroj: Správa o hospodárení TRUMPF OR 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Dátum vydania: 10/2018
Odkaz: k článku

Článok na golem.de oznamuje, že ASML vylepšil svoje systémy NXW:3400B do tej miery, že sa sériová výroba s efektivitou nákladov a času posúva vďaka extrémnemu ultrafialovému žiareniu do dostupnej blízkosti. Zdroj: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Dátum vydania: 07/2018
Odkaz: k článku

LaserFocusWorld vykresľuje v tomto článku viac ako dvadsaťročný vývoj technológie extrémne ultrafialového žiarenia (EUV) a popisuje početné prekážky a výzvy, ktoré bolo nutné zvládnuť až po prelom v roku 2015.

Zdroj: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Dátum vydania: 11/2017
Odkaz: k článku

Táto správa v odbornom časopise "Produktion" sa zaoberá prevzatím väčšinového podielu v Access firmou TRUMPF. Ako výrobca CO₂ laserov s nízkym výkonom je Access Laser jedným z najdôležitejších partnerov firmy TRUMPF v oblasti EUV. Zdroj: www.optics.org
Autor: n.N.
Dátum vydania: 10/2017
Odkaz: k článku

Noviny Stuttgarter Zeitung píšu, ako vstupuje TRUMPF ako dodávateľ so svojim Laser Amplifier do výroby polovodičov a založil za tým účelom novú dcérsku spoločnosť Zdroj: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Dátum vydania: 05/2017
Odkaz: k článku

Článok v týždenníku pre elektroniku "Markt&Technik" zhŕňa aktuálne a plánované čísla obratu a odbytu v ASML, ktoré dokladujú skutočnosť, že litografia EUV už definitívne vstúpila do priemyslu. Zdroj: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Dátum vydania: 07/2017
Odkaz: k článku