High Power Seed Module (HPSM) pozostáva z dvoch laserov Seed, ktoré vytvárajú výstupné impulzy v niekoľkých wattoch, ako aj z množstva aktívnych a pasívnych optických komponentov, ktoré formujú laserový lúč a prispievajú k optimálnej dĺžke impulzu. Pomocou prvého zosilňovača sa vopred zosilní svetlo na 100 W. Lasery Seed sú optimálne chránené ochrannými mechanizmami pred spätnými odrazmi, čím sa výrazne zvýši stabilita celého systému a je možné dosiahnuť potrebný konštantný výkon extrémneho ultrafialového žiarenia (EUV).

High Power Amplification Chain (HPAC) sa skladá zo štyroch rezonátorov na zvýšenie výkonu, ktoré sú vzájomne prepojené prvkami vedenia lúča. Každý rezonátor je optimalizovaný na príslušný stupeň zosilnenia (napr. dúchadlo, RF-budenie, zmiešavač plynu, lúčovod). Tri rôzne chladiace okruhy pritom zaručujú potrebnú stabilitu v systéme. Krátke pulzy prispievajú k extrémne vysokému výstupnému výkonu Peak v oblasti MW. Rozsiahla online metrológia poskytuje podklady pre permanentné zameriavanie lúča.

Beam Transport System (BTS) - pozostávajúci zo základnej platne, periskopu a zrkadla - prenáša laserový lúč na vzdialenosť až 30 metrov smerom ku kvapkovej komore. Rozhodujúca je najmä tak mechanická stabilita systému pri vysokom výkonovom zaťažení ako aj tesnosť vedenia laserového lúča pre minimálnu absorpciu a znečistenie. Zrkadlá majú špeciálnu povrchovú úpravu, aby bolo absorbované tak málo laserového svetla ako je možné.

FFA sa skladá z dvoch častí zariadenia: Optics Platform a Focusing Unit. Pre vytvorenie ideálneho záblesku plazmy musí laserový impulz takmer úplne trafiť kvapku cínu. Keďže je ale kvapka cínu menšia ako priemer laserového lúča, separuje sa v Optics Platform prvotný a hlavný impulz a formuje sa na vytvorenie optimálneho žiarenia EUV. Prvotný pulz najprv dopadne na kvapku cínu menším pulzným výkonom, čím sa kvapka zmení na diskovitý útvar a zväčší svoju plochu. Hlavný pulz, ktorý za ním nasleduje je absorbovaný vzniknutým tekutým filmom a vzniká vlastná plazma, ktorá vytvára extrémne ultrafialové žiarenie (EUV). Týmto spôsobom je efektívne využitý výkon lasera 40 kilowattov a je zaručené bezpečné vytvorenie záblesku plazmy na vytvorenie osvitu. Zaostrovacia jednotka sa stará o optimálne zaostrenie laserového svetla na kvapky cínu.