Selectare țară/regiune și limbă

Plasmareinigung

Curățare cu plasmă

Eficient, ecologic și sigur - curățenie fără compromisuri prin utilizarea plasmei.

Curățarea cu plasmă a devenit un procedeu alternativ pentru curățarea suprafețelor, care răspunde cerințelor ridicate în materie de calitate. Prin intermediul acesteia pot fi realizate suprafețe degresate absolut curate. Curățarea cu plasmă înlocuiește hidrocarburile și substanțele apoase, îndepărtează uleiul, unsoarea, precum și ceara și chiar și siliconul. Instalațiile cu plasmă de joasă presiune permit, de asemenea, reducerea straturilor subțiri de oxizi, respectiv sulfură de pe metale. Temperaturile de tratare se situează în mod normal sub 100 grade Celsius.

Carte albă

Am pregătit pentru dumneavoastră câteva cărți albe interesante pe următoarele subiecte

PDF - 715 KB

Forma este cea care contează: pulverizarea bipolară

În acest articol sunt prezentate două caracteristici ale alimentărilor cu tensiune bipolare: (i) o gamă largă de frecvențe de impulsuri de până la 100 kHz și (ii) un timp de frânare suplimentar între jumătatea de undă pozitivă și cea negativă a formei de undă dreptunghiulare a curentului și tensiunii.

PDF - 941 KB

Sinusoidal sau dreptunghiular

De la introducerea pulverizării magnetronice duale (DMS) pentru straturile cu grad ridicat de izolare, a existat posibilitatea de a selecta între alimentarea cu tensiune cu impulsuri cu undă pătrată și cea cu undă sinusoidală.

PDF - 567 KB

Auto Frequency Tuning

O contramăsură împotriva fluctuațiilor rapide în gama de impedanță a plasmei este adaptarea automată a frecvenței, în care generatorul de radiofrecvență își ajustează oscilația fundamentală la o valoare de frecvență cu o mai bună potrivire într-un interval de timp mai mic de o milisecundă.

PDF - 2 MB

Noua tehnologie CC cu impulsuri

Pulverizarea în CC și în CC cu impulsuri este una dintre cele mai frecvent utilizate tehnici de pulverizare în domeniul industrial. Introducerea tehnologiei curentului continuu cu impulsuri a permis producerea în masă a straturilor de acoperire din compuși neconductori produși prin pulverizare magnetronică reactivă.

PDF - 1 MB

Mod de tranziție cu reglare a tensiunii

Pulverizarea reactivă este o metodă de succes pe scară largă în industria modernă pentru producerea straturilor de acoperire izolatoare și a acoperirilor dure. Comparativ cu vaporizarea, pulverizarea oferă avantajele unui strat de acoperire cu asistare ionică, ceea ce o face atractivă pentru industrie, în ciuda costurilor considerabile ale instalațiilor și ale energiei electrice.

PDF - 2 MB

Administrarea arcului

Formarea de arcuri în timpul pulverizării magnetronice MF: O problemă cunoscută în cazul pulverizării magnetronice reactive este formarea arcului electric la catozi.

PDF - 864 KB

LDMOS

Această lucrare analizează efectele structurilor de combinare a puterii asupra performanțelor RF și termice ale amplificatoarelor RF de mare putere în condiții de incongruență.

PDF - 425 KB

HiPIMS - noi posibilități pentru industrie

HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) este cel mai recent proces PVD (Physical Vapour Deposition) disponibil în industrie.

PDF - 1 MB

Tehnologia PEALD, generator de semnal de frecvență radio și rețele de potrivire

Atomic Layer Deposition (ALD) este un proces prin care o varietate de materiale în strat subțire sunt depuse dintr-o fază de vapori. O peliculă foarte subțire de straturi atomice se formează în mai multe cicluri de acoperire.

PDF - 3 MB

Aplicarea pulverizării cu impulsuri de curent continuu

Unul dintre cele mai interesante materiale de resorbție pentru celulele solare sunt materialele pe bază de seleniură de cupru și indiu (CIS), ale căror proprietăți pot fi modificate prin înlocuirea unei părți din indiu cu galiu pentru a forma Cu(In,Ga)Se2, cunoscut sub numele de CIGS.

PDF - 2 MB

Precizie în prelucrare

Îmbunătățirile continue ale proceselor de fabricație a semiconductorilor sunt o condiție preliminară pentru a asigura o reducere constantă a dimensiunilor. Acest lucru, la rândul său, necesită generatoare RF care să ofere o calitate din ce în ce mai bună a semnalului în ceea ce privește puterea de ieșire și rezoluția în timp.

Contact

Dr. Jan Peter Engelstädter

Plasmă MF

E-mail

Service și contact