High Power Seed Module (HPSM) este alcătuit din două lasere de amplificare care generează un număr mic de impulsuri de ieșire puternice, precum și dintr-un număr mare de componente optice active și pasive, care formează fasciculul laser și asigură o durată optimă a impulsului. Cu ajutorul primului amplificator, lumina este preamplificată până la 100 W. Laserele de amplificare sunt protejate optim împotriva retroreflexiei prin intermediul unor mecanisme de siguranță, în vederea îmbunătățirii semnificative a stabilității întregului sistem și atingerii constantei de putere EUV necesare.
Prin intermediul impulsului laser, asigură baza pentru fabricarea viitoarei generații de microcipuri.
Litografia EUV, catalizator al erei digitale
Litografia EUV este cea mai bună metodă pentru fabricarea viitoarei generații de microcipuri. Industria semiconductorilor a căutat mulți ani un proces de producție în masă eficient din punct de vedere al costurilor, cu ajutorul căruia să poată fi iradiate structuri cât mai mici de pe plachete semiconductoare de siliciu. ASML, Zeiss și TRUMPF au dezvoltat împreună o tehnologie pentru utilizarea în domeniul industrial a razelor ultraviolete extreme (EUV) cu o lungime de undă de 13,5 nanometri: un generator de picături lansează 50.000 de picături minuscule de staniu pe secundă într-o cameră cu vid. Fiecare dintre aceste picături este iradiată de unul dintre cele 50.000 de impulsuri laser și transformată în plasmă. În acest mod sunt produse radiațiile EUV, care sunt direcționate cu ajutorul unei oglinzi către plăcuțele semiconductoare expuse. Impulsul laser pentru iradierea plasmei este produs de un sistem laser CO2 dezvoltat de TRUMPF, compatibil cu tehnologia pe bază de impulsuri - amplificatorul laser TRUMPF.
Amplificatorul laser TRUMPF mărește secvențial puterea unui impuls laser de peste 10.000 de ori.
Prin emiterea unui impuls inițial și a unui impuls principal, întreaga putere a amplificatorului laser poate fi transmisă picăturilor de staniu.
La baza sistemului cu laser de mare putere este un laser CO2 în regim de undă continuă. Astfel, TRUMPF utilizează această tehnologie pentru o nouă aplicație.
După o cooperare strânsă îndelungată, TRUMPF, ASML și ZEISS au reușit să adapteze tehnologia EUV în vederea utilizării în domeniul industrial.