Im Spiegel der Medien: EUV-Lithografie

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
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Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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Neste artigo no Golem.de, o autor Marc Sauter explica como a Samsung Foundry concluiu o desenvolvimento de um processo de 5 nm com radiação de ultravioleta extrema (EUV) e a partir de agora está recebendo pedidos de clientes. Com o novo processo, a espessura do transistor pode aumentar em 25% e, ao mesmo tempo, os chips têm uma absorção de potência 20% menor ou uma potência de cálculo 10% superior.

Fonte: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data de publicação: 04/2019
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Heise.de explica neste artigo como a Samsung no fim do ano de 2018 iniciou a produção em sua primeira fábrica de 7 nm e lá faz a exposição de wafers com o sistema de litografia UVE da ASML. Fonte: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Data de publicação: 10/2018
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O relatório anual TRUMPF do exercício 2017/2018 explica como o domínio da luz - e, com isso, também do laser e da litografia UVE - forma a base para as tecnologias do futuro, como a inteligência artificial, direção autônoma e fábricas conectadas.

Fonte: Relatório anual TRUMPF exercício 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data de publicação: 10/2018
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O artigo na página golem.de anuncia que a ASML aprimorou seus sistemas NXW:3400B de tal forma que a produção em série com eficiência de custo e tempo está cada vez mais próxima com a radiação ultravioleta extrema. Fonte: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data de publicação: 07/2018
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LaserFocusWorld descreve neste artigo o desenvolvimento de mais de vinte anos da tecnologia UVE e conta as várias barreiras e desafios que foram superados até a inovação em 2015.

Fonte: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Data de publicação: 11/2017
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Este relatório da revista especializada "Produktion" aborda a aquisição majoritária da Access pela TRUMPF. Como fabricante de lasers de CO₂ de baixa potência, a Access Laser é um dos parceiros mais importantes nos negócios de UVE da TRUMPF. Fonte: www.optics.org
Autor: sem nome
Data de publicação: 10/2017
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O jornal Stuttgarter Zeitung relata como a TRUMPF entrou como fornecedor no setor de semicondutores com seu Laser Amplifier e como abriu uma nova frente para os negócios. Fonte: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Data de publicação: 05/2017
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O artigo no periódico semanal especializado em eletrônica "Markt&Technik" reúne os números atuais e planejados de receita e vendas da ASML que comprovam que a litografia UVE finalmente chegou ao setor industrial. Fonte: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Data de publicação: 07/2017
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