Geradores de alta frequência de última geração
No revestimento ou estruturação de superfícies, o fator decisivo é a alimentação de corrente de plasma estável e reprodutível. Aqui, os geradores de alta frequência equipados com eletrônica de potência moderna do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) oferecem as melhores condições: graças à potência de saída estável e à alta precisão de regulagem, eles conseguem garantir os melhores resultados em produtividades altas.
Tecnologia CombineLine: desempenho de processo ideal graças à impedância de saída real de 50 Ohm.
Não é mais necessário efetuar ajustes no comprimento do cabo - uma novidade na área de alta frequência!
Tecnologia CombineLine: proteção confiável contra potências refletidas em adaptações incorretas.
Níveis de eficiência de até 80% permitem uma redução dos custos com energia em até 50%.
Sem aquecimento ou poluição do ar do ambiente, por isso é possível operar em ambientes estéreis.
Ideal para revestimento de telas planas
Os geradores de alta frequência TruPlasma Série RF 1000 / 3000 (G2/13) são ideais para processos de plasma como RIE, ALD, PECVD e pulverização catódica. Esses processos são aplicados, por exemplo, na fabricação de elementos de semicondutores e sistemas microeletromecânicos (MEMS), bem como no revestimento de telas planas e células solares.
Área de aplicação típica: a indústria solar
As áreas de aplicação típicas do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) são processos rigorosos de PECVD, gravação e de pulverização de alta frequência nas indústrias de tela plana, solar e de semicondutores.
Fabricação de semicondutores
Na fabricação de semicondutores são usados diversos processos de plasma, desde processos de deposição por gravação a seco até método de flutuação de zona na fabricação de silício puro. Os geradores TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) oferecem todas as condições para uma alimentação de corrente estável, ideal e conforme o respectivo processo, de maneira que resultados excelentes e reprodutíveis possam ser atingidos.
Ajuste ideal ao seu processo
A correspondência inteligente em tempo real do TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) garante uma adaptação de impedância rápida e direta em 50 Ohm. As oscilações de plasma e poluições são impedidas de maneira confiável com a tecnologia patenteada CombineLine, o conceito de refrigeração sem ar reduz a taxa de interrupções, aumenta a eficiência e permite a utilização em ambientes estéreis.
Máxima eficiência e flexibilidade
Graças aos altos níveis de eficiência de até 80%, você consegue reduzir os custos energéticos em comparação com geradores comuns em até 50%. As diversas interfaces disponíveis (interface analógica configurável, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) facilitam a integração a sistemas existentes, as adaptações técnicas não são mais necessárias devido aos ultra-adaptadores de rede integrados mundiais (200-480 VAC). A forma compacta, apesar da alta densidade de potência (módulos de 19 polegadas e 19 e meia polegadas), permite uma integração com economia de espaço em todos os sistemas de produção.
TRUMPF SystemPort
O SystemPort permite um circuito de regulagem fechado por meio da medição do sinal de RF diretamente na entrada e saída do Matchbox. Diversos valores de medição estão à disposição do gerador de RF. Assim, os parâmetros de processo podem ser melhor monitorados, o Matchbox é protegido e é possível garantir uma detecção de arco rápida. Todo o sistema de RF também pode ser controlado por interfaces do gerador individuais.
As diferentes opções permitem uma adaptação ideal do gerador de alta frequência à sua aplicação.
A solução patenteada Auto Frequency Tuning permite um ajuste de frequência simultâneo e rápido e garante uma interação ideal entre o gerador e o Matchbox. Com essa tecnologia patenteada, a quantidade mínima local não é mais um obstáculo: o sistema de RF foi concebido de forma ideal e, por isso, permite os melhores resultados de processo e um alto nível de capacidade de reprodução.
A gestão de arcos sofisticada é o módulo ideal para o melhor controle do processo de plasma. Uma detecção de arco específica garante a maior produtividade possível e protege ainda o produto e o sistema.
Todos os componentes do sistema catódico da TRUMPF estão perfeitamente ajustados entre si.
Ajuste perfeito: o sistema catódico da TRUMPF
Os processos de plasma se comportam como uma carga complexa e variável que precisa receber uma alimentação elétrica de maneira contínua. Isso é feito por redes de adaptação ativas, chamadas de Matchboxes, que garantem uma adaptação precisa à impedância ideal de 50 Ohm a qualquer momento. Assim surge uma solução de sistema perfeitamente ajustada, o sistema catódico da TRUMPF. Por diversas interfaces, entre elas EtherCAT, é possível integrar o gerador e o Matchbox de maneira simples ao ambiente de processo existente. Com a ligação inteligente entre o Matchbox e o gerador, o chamado SystemPort, atinge-se a solução de sistema ideal.
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