Garantia de excelentes resultados de processo
Com esses geradores de alta frequência, você sempre fica do lado seguro: os TruPlasma RF Série 3000 se destacam pela construção robusta e alta eficiência. Por isso, eles são os mais adequados para processos de plasma reprodutíveis, estáveis, como para a fabricação de telas planas, células solares ou semicondutores. Instalados em milhares de aplicações no mundo todo, esses geradores garantem uma alta produtividade e resultados de processo sensacionais.
Níveis de eficiência de até 80% permitem uma redução dos custos com energia em até 50%.
Controle seguro inclusive de processos novos e exigentes.
Tecnologia CombineLine: proteção confiável contra potências refletidas em adaptações incorretas.
Débito de potência contínuo ou pulsado, por isso pode ser usado em inúmeras aplicações.
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Processos de gravação e revestimento
Os geradores de alta frequência TruPlasma RF Série 3000 são adequados principalmente para processos de revestimento e gravação, como gravação por plasma, gravação iônica reativa, ALD e PECVD.
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Revestimento de peças de metal
Por meio de processos de plasma, o material pode ser aplicado e retirado das superfícies, como durante o revestimento de peças de trabalho de metal com uma camada de proteção contra desgaste ou na estruturação de elementos eletrônicos por gravação por plasma ou incineração de plasma fotorresistente.
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Ideal para revestimento de telas planas e células solares
Os geradores de alta frequência TruPlasma RF Série 3000 são ideais para processos de plasma como RIE, ALD, PECVD e pulverização catódica. Esses processos são aplicados, por exemplo, no revestimento de telas planas e células solares.
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Eficiência e estabilidade de processo máximas
Redução de perda de potência pela metade e diminuição dos custos indiretos de água de refrigeração graças ao excelente nível de eficiência – assim é possível reduzir seus custos operacionais. A construção bastante robusta dos geradores permite tempos de funcionamento mais longos, mesmo em processos críticos, e taxas de revestimento maiores.As oscilações de plasma são efetivamente evitadas pela tecnologia CombineLine com impedância de saída de 50 Ohm – assim os processos absolutamente estáveis são possíveis.
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Segurança sob qualquer circunstância
A construção robusta garante o máximo de confiabilidade e produtividade para seu processo. Uma proteção contra adaptação incorreta de 100% garante uma operação segura, inclusive em cargas críticas. O débito de potência opcional contínuo ou pulsado suporta uma grande faixa de exigências de processo. No mundo, há 20.000 unidades já instaladas – mais do que qualquer outra alimentação de plasma.
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TRUMPF SystemPort
O SystemPort permite um circuito de regulagem fechado por meio da medição do sinal de RF diretamente na entrada e saída do Matchbox. Diversos valores de medição estão à disposição do gerador de RF. Assim, os parâmetros de processo podem ser melhor monitorados, o Matchbox é protegido e é possível garantir uma detecção de arco rápida. Todo o sistema de RF também pode ser controlado por interfaces do gerador individuais.
As diferentes opções permitem uma adaptação ideal do gerador de alta frequência à sua aplicação.
A gestão de arcos sofisticada é o módulo ideal para o melhor controle do processo de plasma. Uma detecção de arco específica garante a maior produtividade possível e protege ainda o produto e o sistema.
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TruControl Power
O software de comando TruControl Power de fácil utilização permite uma colocação em funcionamento confortável e o monitoramento seguro do gerador de alta frequência e de todo o sistema catódico TRUMPF no processo em andamento.
Todos os componentes do sistema catódico da TRUMPF estão perfeitamente ajustados entre si.
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Ajuste perfeito: gerador e Matchbox
Os processos de plasma se comportam como uma carga complexa e variável que precisa receber uma alimentação elétrica de maneira contínua. Isso é feito por redes de adaptação ativas, chamadas de Matchboxes, que garantem uma adaptação precisa à impedância ideal de 50 Ohm a qualquer momento. Assim surge uma solução de sistema perfeitamente ajustada, o sistema catódico da TRUMPF. Por diversas interfaces, entre elas EtherCAT, é possível integrar o gerador e o Matchbox de maneira simples ao ambiente de processo existente. Com a ligação inteligente entre o Matchbox e o gerador, o chamado SystemPort, atinge-se a solução de sistema ideal.
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