Solução de sistema catódico única
Os novos Matchboxes do TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) são o complemento ideal para os geradores de alta frequência da TRUMPF Hüttinger. Graças ao algoritmo de correspondência inteligente e à plataforma de controle digital para monitoramento de processo é criada uma solução completa, na qual todos os componentes funcionam de maneira ideal - o sistema catódico da TRUMPF.
Ajuste de impedância rápido, estável e reprodutível a 50 Ohm mesmo em processos críticos.
Software avançado e comunicação aprimorada entre o gerador e o Matchbox.
Rastreamento automático do sistema a cada alteração de impedância do Matchbox e carga.
Monitoramento ideal dos parâmetros de processo e detecção rápida de arcos.
Interface de usuário gráfica e ferramentas eficientes (diagrama Smith, osciloscópio em tempo real).
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Fabricação de semicondutores, células solares e telas planas
Na fabricação de semicoundutores, células solares e telas planas, os processos estáveis de plasma são decisivos. Em conjunto com os geradores de alta frequência da TRUMPF Hüttinger, os Matchboxes TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) são uma solução completa para a máxima estabilidade de processo e produtividade.
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Aplicação de camadas de resina e proteção contra desgaste
Pela aplicação de camadas funcionais, as peças de trabalho bastante exigidas recebem uma dureza mecânica aumentada, bem como estabilidade química e térmica aprimoradas. Os Matchboxes TruPlasma Serie 1000 (G2/13) garantem a qualidade de camada perfeita em conjunto com um gerador de alta frequência da TRUMPF Hüttinger.
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Remoção e revestimento de superfícies
Os Matchboxes TruPlasma Match Série 1000 (G2/13) podem ser utilizados em todos os processos de plasma comuns para revestimento ou remoção de superfícies – por exemplo, gravações em plasma, gravação iônica reativa, pulverização catódica ou incineração de plasma fotorresistente. Junto com um gerador de alta frequência da TRUMPF Hüttinger são atingidos os melhores resultados de processo.
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Controle de processo perfeito a qualquer momento
O Matchbox garante que o ajuste de impedância de 50 Ohm seja rápido e direto - assim é garantida a potência total do gerador de alta frequência no processo. A comunicação sem fio entre o Matchbox e o gerador possibilita um monitoramento de processo ideal e a detecção rápida de arcos.
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Todos os parâmetros em um só lugar
A medição em tempo real da potência de entrada e saída de alta frequência indica as alterações de impedância dinâmicas, os sensores de refrigeração possibilitam uma previsão confiável da perda de potência. Graças ao software de operação gráfica com opções de apresentação complexas (gráfico de Smith, osciloscópio em tempo real) você mantém todos os parâmetros importantes sob controle.
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TRUMPF SystemPort
O SystemPort permite um circuito de regulagem fechado por meio da medição do sinal de RF diretamente na entrada e saída do Matchbox. Diversos valores de medição estão à disposição do gerador de RF. Assim, os parâmetros de processo podem ser melhor monitorados, o Matchbox é protegido e é possível garantir uma detecção de arco rápida. Todo o sistema de RF também pode ser controlado por interfaces do gerador individuais.
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Medição de corrente alternada altamente precisa para detecção de anomalias de plasma, instalado no Matchbox próximo ao processo, diretamente na câmara.
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Como interfaces opcionais estão disponíveis analógico/digital, PROFIBUS e EtherCAT. Padrão são EtherNet, SystemPort e RS232/485.
A gestão de arcos sofisticada é o módulo ideal para o melhor controle do processo de plasma. Uma detecção de arco específica garante a maior produtividade possível e protege ainda o produto e o sistema.
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Software de comando gráfico
Representações gráficas complexas permitem um controle total de todos os parâmetros de processo relevantes. A impedância da carga e do Matchbox são visualizadas por meio de um diagrama de Smith,
a potência de entrada e saída de alta frequência, além da posição da fase e da frequência são visualizadas com ajuda de um osciloscópio em tempo real.
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TruControl Power
O software TruControl Power, de fácil utilização, permite o arranque e a monitorização segura do gerador de RF ou de todo o sistema TRUMPF RF durante o processamento.
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Representações gráficas complexas permitem um controle total de todos os parâmetros de processo relevantes. A impedância da carga e do Matchbox são visualizadas por meio de um diagrama de Smith, a potência de entrada e saída de alta frequência, além da posição da fase e da frequência são visualizadas com ajusta de um osciloscópio em tempo real.
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Por causa dos osciladores mestre, os processos de plasma síncronos críticos podem ser estabilizados e otimizados. Um sintetizador digital integrado de frequência e fase garante uma grande estabilidade de frequência e fase e permite o ajuste da posição de fase em incrementos muito pequenos. Há diversas versões de osciladores mestre disponíveis para a frequência 13,56 MHz, bem como para diferentes combinações de frequência.
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O comutador de alta frequência permite a utilização múltipla de um gerador de alta frequência em diversas estações de processo de plasma, como para alimentação de tensão de processos sequenciais ou em sistemas com diversos pontos de alimentação. Há diversos comutadores de alta frequência disponíveis em duas classes de potência com 2, 3 ou 4 saídas.
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Para a transmissão de potência de alta frequência, a TRUMPF Hüttinger fornece cabos coaxiais especialmente concebidos para a operação em sistemas de 50 Ohm.
Controle total do processo de plasma
Os processos de plasma se comportam como uma carga complexa e variável que precisa receber uma alimentação elétrica de maneira contínua. Isso é feito por redes de adaptação ativas, chamadas de Matchboxes, que garantem uma adaptação precisa à impedância ideal de 50 Ohm a qualquer momento. Assim, surge uma solução de sistema perfeitamente ajustada, o sistema catódico da TRUMPF.
Por diversas interfaces, entre elas EtherCAT, é possível integrar o gerador e o Matchbox de maneira simples ao ambiente de processo existente. Com a ligação inteligente entre o Matchbox e o gerador, o chamado SystemPort, atinge-se a solução de sistema ideal.
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