W obiektywie mediów: litografia EUV

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

W tym artykule opublikowanym na stronie Golem.de autor Marc Sauter informuje, że firma Samsung Foundry zakończyła rozwój procesu 5 nm z wykorzystaniem światła z zakresu ekstremalnego ultrafioletu i przyjmuje już zlecenia od klientów. Nowy proces pozwala na wzrost gęstości tranzystorów o 25%, a jednocześnie pobór mocy elektrycznej przez czip spada o 20% przy wzroście mocy obliczeniowej o 10%.

Źródło: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data publikacji: 04/2019
Linkdo artykułu

Na stronie heise.de pojawił się artykuł, mówiący, że jesienią 2018 r. firma Samsung rozpoczęła produkcję w pierwszej fabryce elementów 7 nm i wykorzystuje tam system litografii EUV firmy ASML do oświetlania wafli krzemowych. Źródło: www.heise.de
Autor: Nico Ernst
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF 2017/2018 wskazuje, jak zapanowanie nad światłem, więc także laser oraz litografia EUV, stanowi podstawy technologii przyszłości takich jak sztuczna inteligencja, autonomiczne pojazdy oraz usieciowane fabryki.

Źródło: Sprawozdanie z działalności firmy TRUMPF, rok podatkowy 2017/2018
Autor: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data publikacji: 10/2018
Link: do artykułu

Artykuł ze strony golem.de zapowiada nowości. Firma ASML tak znacząco usprawniła swoje systemy NXW:3400B, że ekonomiczna i efektywna czasowo produkcja seryjna z wykorzystaniem promieniowania z zakresu ekstremalnego ultrafioletu będzie dostępna w najbliższej przyszłości. Źródło: www.golem.de
Autor: Marc Sauter
Data publikacji: 07/2018
Link: do artykułu

LaserFocusWorld w tym artykule opisuje ponad 20 lat rozwoju technologii EUV i przedstawia liczne przeszkody i wymagania, które musiały zostać przezwyciężone do przełomu w 2015 r.

Źródło: LaserFocusWorld
Autor: Andreas Thoss
Data publikacji: 11/2017
Link: do artykułu

To sprawozdanie w specjalistycznym piśmie „Produktion” dotyczy przejęcia pakietu większościowego spółki Access przez firmę TRUMPF. Spółka Access jako producent laserów CO₂ o niskiej mocy jest ważnym partnerem działalności firmy TRUMPF w zakresie EUV. Źródło: www.optics.org
Autor: n.N.
Data publikacji: 10/2017
Link: do artykułu

Stuttgarter Zeitung opisuje, jak firma TRUMPF dzięki swojemu urządzeniu Laser Amplifier wchodzi do branży półprzewodnikowej jako kooperant oraz jak powstała nowa spółka-córka. Źródło: Stuttgarter Zeitung
Autor: Michael Heller
Data publikacji: 05/2017
Link: do artykułu

Artykuł w tygodniku dla elektroników „Markt&Technik” podsumowuje aktualne i planowane statystyki sprzedaży i obrotów firmy ASML, które wskazują, że litografia EUV w końcu weszła do zastosowań na skalę przemysłową. Źródło: Markt&Technik
Autor: Heinz Arnold
Data publikacji: 07/2017
Link: do artykułu