Elektronika

Lasery marki TRUMPF wytwarzają produkty powtarzalne i wysokiej jakości, predystynowane do branży elektronicznej, także w bardzo dużych ilościach sztuk. Ponad 1000 samych tylko laserów z ultrakrótkimi impulsami firmy TRUMPF pracuje przez całą dobę przez 365 dni w roku w środowiskach produkcyjnych ogólnoświatowych liderów branży. W zależności od obszaru zastosowania TRUMPF dostarcza nowo opracowane maszyny albo pojedyncze pakiety technologii laserowej. W obu przypadkach klienci korzystają z międzynarodowej sieci serwisowej grupy TRUMPF.

Powstanie mikroelektroniki, a więc podstawy naszych dzisiejszych komputerów i smartfonów, byłoby nie do pomyślenia bez techniki laserowej. Układy scalone z układami logicznymi i pamięcią posiadają struktury mierzone w nanometrach i mogą być wytwarzane tylko w drodze skomplikowanych procesów naświetlania promieniem lasera. Tradycyjna metoda wykorzystująca promienie laserowe z zakresu ultrafioletu z laserów ekscymerowych coraz częściej okazuje się już niewystarczająca. Mniejsze struktury będzie można generować w przyszłości tylko z użyciem jeszcze mniejszych długości fal w zakresie skrajnego ultrafioletu (EUV). Razem z największym producentem systemów litograficznych, firmą ASML, oraz specjalistą w dziedzinie układów optycznych, firmą Zeiss, firma TRUMPF pracowała nad tą metodą litografii w ramach wieloletniej, intensywnej współpracy i opracowała unikalny w skali światowej system laserowy CO₂. Dlatego w przyszłości w wielu wysokowydajnych układach scalonych będzie tkwił kawałek technologii spod znaku TRUMPF.

Generatory plazmy TRUMPF Hüttinger odgrywają nadrzędną rolę także podczas właściwej produkcji układów scalonych. Jakość zasilania prądowego definiuje jakość i precyzję wygenerowanej plazmy, która w kolejnym kroku jest wykorzystywana w celu domieszkowania (implantacji jonowej), odcinania (PECVD, ALD) lub usuwania (trawienia plazmowego) różnych materiałów służących do produkcji układów scalonych półprzewodnikowych. Podczas tego procesu powstają trujące gazy eliminowane efektywnie ze środowiska przez specjalny system znajdujący się w zasilaczach TRUMPF Hüttinger, dzięki czemu poziom CO₂ pochodzącego z produkcji półprzewodników jest utrzymywany na minimalnym poziomie.

Kolejnym, po naświetlaniu i budowie układów połączeń na waflach krzemowych, wyzwaniem dla łańcucha procesów elektronicznych, jest rozdzielanie na osobne układy scalone. Aby uzyskać jak najmniejsze szczeliny cięć i wysoką jakość krawędzi oraz nie uszkodzić wrażliwych układów scalonych pod wpływem wysokich temperatur, przy rozdzielaniu używa się laserów TRUMPF o ultrakrótkich impulsach. Umożliwiają one obróbkę materiału bez niepożądanego wpływu ciepła oraz najwyższą dokładność obróbki laserowej. Te lasery nadają się też do okrawania laserowego wrażliwych modułów (System-in-Package), obróbki wielomateriałowych obwodów drukowanych oraz wiercenia tak zwanych mikrootworów w krzemie i szkle. Ponadto branża wykorzystuje lasery firmy TRUMPF do kontrolowanego zdejmowania warstw, cięcia folii oraz opisywania.

Syntetyczna produkcja kryształów jest podstawą przemysłu półprzewodnikowego – a zatem bazą całej techniki komunikacyjnej i multimedialnej. Warstwy monokrystaliczne wyrastają przy tym na monokrystalicznych podłożach tego samego materiału, zachowując identyczny porządek krystalograficzny. Proces jest wykorzystywany między innymi w produkcji diod świetlnych. Zasilacze indukcyjne marki TRUMPF Hüttinger umożliwiają jednorodny i stabilny rozdział temperatury dzięki szybkiej i precyzyjnej regulacji wielkości wyjściowych.