Moduł High Power Seed (HPSM) składa się z dwóch laserów zasiewających, które wysyłają impulsy wyjściowe o mocy kilku watów do aktywnych i pasywnych komponentów optycznych, które formują wiązkę laserową i zapewniają optymalny czas impulsu. Pierwszy wzmacniacz pozwala na wstępne wzmocnienie mocy do rzędu 100 W. Dzięki mechanizmom ochronnym lasery zasiewające są optymalnie chronione przed odbiciami światła, co powoduje znaczący wzrost stabilności całego systemu i pozwala na korzystanie ze stałej mocy impulsów EUV.

High Power Amplification Chain (HPAC) składa się z czterech rezonatorów, które mają za zadanie wzmocnienie mocy, są one połączone za pomocą elementów układu prowadzenia promieni. Każdy rezonator jest zoptymalizowany do odpowiedniego stopnia wzmocnienia (np. dmuchawa, wzbudzenie częstotliwości radiowych, mieszanie gazu, układ prowadzenia promienia). Trzy różne obiegi chłodzenia gwarantują przy tym wymaganą stabilność systemu. Krótkie impulsy zapewniają wyjątkowo wysoką szczytową moc wyjściową w zakresie megawatów. Szczegółowa metrologia online stanowi podstawy ciągłego pomiaru promienia.

Beam Transport System (BTS), który składa się z płyty montażowej, peryskopu i zwierciadeł transportuje promień lasera na odległość do 30 m w kierunku komory kropli. Podstawą niskiej absorpcji i niewielkiego zabrudzenia jest nie tylko mechaniczna stabilność systemu przy dużym obciążeniu mocą, ale także szczelność układu prowadzenia promienia. Zwierciadła są specjalnie powlekane tak, aby absorbowały tak niewiele światła lasera jak to tylko możliwe.

FFA składa się z dwóch komponentów instalacji: Optics Platform i Focusing Unit. Do wywołania idealnego błysku plazmowego impuls lasera musi prawie całkowicie trafić na kroplę cyny. Ponieważ krople cyny są jeszcze mniejsze niż średnica promienia lasera, Optics Platform oddziela impuls wstępny i główny i prowadzi do optymalnego wywoływania promieniowania w zakresie ekstremalnego ultrafioletu. Impuls wstępny o niewielkiej mocy najpierw trafia na krople cyny, aby krople napęczniały do kształtu przypominającego dysk. Prowadzi to do zwiększenia powierzchni. Następujący potem impuls główny jest absorbowany przez powstającą warstwę płynu i powstaje plazma, która emituje promieniowanie w zakresie EUV. W ten sposób 40 kW mocy lasera jest efektywnie wykorzystywane oraz zagwarantowane jest bezpieczeństwo procesu wywoływania błysków plazmy w celu oświetlania innych elementów. Focusing Unit służy do optymalnego skupienia światła lasera na kroplach cyny.