Wybór kraju/regionu i języka
TRUMPF Laser Amplifier do wytwarzania czipów wysokiej mocy
Laser CO2

Impuls lasera jest podstawą wytwarzania mikroczipów przyszłości.

Litografia EUV jako czynnik wspomagający erę cyfrową

Litografia w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) jest wiodącą metodą wytwarzania mikroczipów przyszłości. Przedstawiciele branży półprzewodnikowej przez wiele lat poszukiwali efektywnego i prostego w zastosowaniu masowym procesu, który umożliwiałby oświetlanie jeszcze mniejszych struktur na waflach krzemowych. Współpracujące ze sobą firmy ASML, Zeiss i TRUMPF opracowały technologię, która pozwala korzystać ze światła w zakresie ekstremalnego ultrafioletu (EUV) o długości fal 13,5 nm na skalę przemysłową: w komorze próżniowej generator kropel uwalnia 50 000 najdrobniejszych kropel cyny na sekundę. Z każdą kroplą styka się jeden z 50 000 impulsów lasera i powstaje plazma. Powstaje przy tym światło z zakresu ekstremalnego ultrafioletu, które jest prowadzone do naświetlanego wafla za pośrednictwem zwierciadeł. Impuls stosowany w uzyskiwaniu plazmy jest dostarczany przez impulsowy system lasera CO2 – TRUMPF Laser Amplifier.

Od kilku watów do 40 kW

Wzmacniacz TRUMPF Laser Amplifier sekwencyjnie wzmacnia impuls lasera nawet ponad 10 000 razy.

Efektywnie i bezpiecznie

Wysłanie impulsu wstępnego i głównego pozwala na pełne wykorzystanie mocy wzmacniacza laserowego i przesłanie jej do kropelek cyny.

Nowe zastosowanie lasera CO₂

Podstawą systemu laserowego wysokiej mocy jest laser CO₂ w trybie impulsu ciągłego. W ten sposób firma TRUMPF opracowała nowe zastosowanie technologii.

Wielka sieć specjalistów

Długoletnia, bliska współpraca firm TRUMPF, ASML oraz ZEISS pozwoliła na wprowadzenie do przemysłu dojrzałej technologii EUV.

części

…obejmuje wzmacniacz laserowy.

m

…kabli zabudowano w systemie.

kg

… to masa całkowita.

Centralne komponenty wzmacniacza TRUMPF Laser Amplifier

Te tematy również mogą Państwa zainteresować

Litografia EUV – zbiór artykułów
W obiektywie mediów: litografia EUV

Więcej informacji na temat litografii EUV można znaleźć w naszych artykułach z prasy specjalistycznej i powszechnej.

Visual Elektronik
Elektronika

Od obróbki laserowej po hodowlę kryształów: TRUMPF oferuje podstawowe technologie do produkcji wydajnych półprzewodników w branży elektronicznej.

Laser CO2

Niezawodne, nawet wtedy, gdy sytuacja staje się napięta – lasery TruFlow CO2 TRUMPF tną i spawają w warsztatach na całym świecie.

Kontakt
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Serwis i kontakt