Niezawodny, wysokiej mocy półprzewodnikowy generator plazmy umożliwia uzyskanie najwyższych gęstości plazmy i spełnienie wymagań procesowych
Generatory TruPlasma serii MW są oparte na technologii półprzewodnikowej i zapewniają znacznie większą dokładność częstotliwości niż magnetronowe generatory mikrofalowe. Innowacyjna koncepcja platformy umożliwia wydajne i ekonomiczne uzyskanie najwyższych gęstości plazmy, nawet w przypadku bardzo wysokich wymagań procesowych. Konstrukcja modułowa umożliwia ponadto dokładne skalowanie mocy wyjściowej. Zasilanie pozostaje stabilne przez cały czas, gwarantując wysoką jakość procesu. TruPlasma serii MW dzięki nowoczesnym funkcjom procesowym zapewniają najlepsze wyniki i najwyższą niezawodność podczas produkcji półprzewodników, ogniw fotowoltaicznych i wyświetlaczy.
Innowacyjne impulsy w zakresie nanosekund umożliwiają najlepszą kontrolę procesów plazmowych.
Automatyczne dostosowanie częstotliwości gwarantuje optymalny efekt procesu oraz wysoką powtarzalność.
W systemach z wieloma antenami różne zasilacze mogą być zasilane i podawać impulsy z synchronizacją faz. Poprzez zmianę synchronizacji faz pomiędzy zasilaczami możemy uzyskać jednolitą plazmę na dużej powierzchni.
Polegaj na działaniu zasilacza – również w przypadku nieprawidłowego dostosowania jakość procesu nie pogarsza się.
Korzystaj z bardzo dokładnej cyfrowej modulacji częstotliwości, która zapewnia powtarzalne wyniki procesów, najwyższą jakość powłoki oraz produktywność.
Dzięki cyfrowemu interfejsowi EtherCat można szybko sterować urządzeniem w ciągu jednej milisekundy. Umożliwia to precyzyjne rozprowadzanie plazmy.
![](https://media.trumpf.com/m/2e3daf9f9d430b71/original/TruPlasma-MW-1000-3000-5000-Derivat-512x341-Solar.jpeg?w=1170&h=677)
Produkcja ogniw fotowoltaicznych
W segmencie fotowoltaiki do nakładania i zdzierania materiału stosowane są procesy plazmowe takie jak napylanie lub PECVD. Generatory TruPlasma serii MW mogą się szybko dostosowywać do różnych procesów i zapewniają wysoką produktywność oraz doskonałe wyniki procesów. Dzięki precyzyjnemu dozowaniu energii najlepsze wyniki uzyskiwane są również w najnowocześniejszych i najbardziej wymagających zastosowaniach. Niezwykle precyzyjna regulacja mocy umożliwia przy tym najlepszą powtarzalność wafli.
![](https://media.trumpf.com/m/32d57476db4fd59e/original/TruPlasma-MW-Serie-1000-3000-5000-Belichtungsindustrie-Derivat-512x341.jpg?w=1170&h=677)
Produkcja półprzewodników
Zasilacze plazmowe są stosowane do najróżniejszych procesów plazmowych podczas produkcji półprzewodników – od trawienia suchego po ciągnienie strefowe w produkcji krzemu. Nasza seria TruPlasma MW zapewnia zoptymalizowane zasilanie elektryczne wszystkich tych procesów
![](https://media.trumpf.com/m/5fc24460b47fec0a/original/Three-Displays-Derivat-512x341.jpg?w=1170&h=677)
Powlekanie ekranów płaskich
Podczas powlekania ekranów płaskich nasze zasilacze TruPlasma serii MW wykazują swoje mocne strony w procesach plazmowych takich jak PECVD, ALD i RIE.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.