Gwarancja doskonałych rezultatów procesu
Zasilacze wysokiej częstotliwości to pewne rozwiązanie: TruPlasma RF Serii 3000 charakteryzują się solidną konstrukcją i wysoką wydajnością. Dlatego są one idealnym rozwiązaniem dla stabilnych, powtarzalnych procesów plazmowych. Stosuje się je do wytwarzania płaskich ekranów, ogniw fotowoltaicznych lub elementów półprzewodnikowych. Generatory te gwarantują wysoką wydajność i doskonałe rezultaty procesu w tysiącach zastosowań na całym świecie.
Sprawność do 80% pozwala na redukcję kosztów energii nawet o 50%.
Stabilne prowadzenie także zaawansowanych i innowacyjnych procesów
Technologia CombineLine: niezawodna ochrona przed mocą odbitą w przypadku niedopasowania
Moc oddawana w sposób ciągły lub impulsowy, co umożliwia większą wszechstronność
![](https://media.trumpf.com/m/1ad3e97c6ff94a9d/original/Ideal-geeignet-fur-Atz-und-Beschichtungsprozesse-Derivat-512-341.jpg?w=1170&h=677)
Procesy wytrawiania i powlekania
Generatory wysokiej częstotliwości TruPlasma RF serii 3000 są szczególnie przydatne w procesach wytrawiania i powlekania, na przykład wytrawianie plazmowe, reaktywne wytrawianie jonowe, ALD i PECVD.
![](https://media.trumpf.com/m/35af14c7bf588c5d/original/Ideal-zur-Beschichtung-von-Metallwerkstucken-Derivat-512-341.jpg?w=1170&h=677)
Powlekanie przedmiotów metalowych
Za pomocą procesów plazmowych materiał można nanosić na powierzchnię materiałów, oraz go z niej usuwać, na przykład przy powlekaniu przedmiotów metalowych warstwą ochronną lub przy kształtowaniu urządzeń elektronicznych za pomocą trawienia plazmowego lub spopielania w plazmie.
![](https://media.trumpf.com/m/23527ffe4413351a/original/HF-Generator-TruPlasma-RF-3006-Derivat-512-341.jpg?w=1170&h=677)
Idealne do powlekania płaskich ekranów i ogniw fotowoltaicznych
Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 3000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi podczas powlekania płaskich ekranów i paneli fotowoltaicznych.
![](https://media.trumpf.com/m/65cc2a5ec19f90cc/original/Integrierte-CombineLine-Technologie-3x2.jpg?w=708&h=472)
Najwyższa wydajność i stabilność procesu
Zmniejszenie o połowę strat mocy i zmniejszenie kosztów wody chłodzącej dzięki doskonałej sprawności - ograniczenie kosztów eksploatacji. Bardzo solidna konstrukcja zasilaczy pozwala na dłuższą pracę nawet w krytycznych procesach, a tym samym na większą szybkość powlekania. Technologia CombineLine z prawdziwą 50 omową impedancją wyjściową pozwala skutecznie zapobiegać wahaniom plazmy - umożliwia to absolutne ustabilizowanie procesów.
![](https://media.trumpf.com/m/36e818be1716e3c7/original/Hochfrequenzgenerator-TruPlasma-RF-3012.jpg?w=708&h=472)
Bezpieczeństwo w każdych warunkach
Solidna konstrukcja zapewnia maksymalną niezawodność i produktywność procesu. Stuprocentowa ochrona przed niedopasowaniem gwarantuje bezpieczną eksploatację nawet przy krytycznych obciążeniach. Moc oddawana, do wyboru w sposób ciągły lub impulsowy, wspiera wiele różnych wymagań procesowych. Na całym świecie zainstalowano już ponad 20.000 jednostek - więcej niż z jakiegokolwiek innego źródła zasilania.
![](https://media.trumpf.com/m/fd152f3c98dd309/original/TruPlasma-RF_Systemport-3x2.jpg?w=708&h=472)
TRUMPF SystemPort
SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania. Zasilacz RF ma dostęp do wszystkich zmierzonych wartości. Dzięki temu można lepiej monitorować parametry procesu, chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku. Kompletnym systemem RF można sterować poprzez jeden interfejs zasilacza.
Różne opcje pozwalają na dostosowanie zasilaczy wysokich częstotliwości do szerokiego spektrum zastosowań.
Przemyślana detekcja łuków to idealny moduł dla najlepszej kontroli procesów plazmowych. Precyzyjna detekcja łuków gwarantuje najwyższą możliwą produktywność i jednocześnie chroni produkt i jego instalację.
![](https://media.trumpf.com/m/60a86a9a0b54db98/original/Bedienungsfreundliche-Software-TruControl-Power-244x115.jpg?w=488&h=230)
TruControl Power
Łatwe w obsłudze oprogramowanie sterujące TruControl Power pozwala na wygodne uruchomienie i stabilne monitorowanie pracy zasilacza HF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.
Wszystkie komponenty systemu TRUMPF RF są optymalnie dopasowane.
![](https://media.trumpf.com/m/8e65404ad872650/original/RF-Systemlosung-Matchbox-fur-hochste-Prozessstabilitat-71x40.jpg?w=568&h=320)
![](https://media.trumpf.com/m/58469e363c37d659/original/Masteroszillator-zur-Stabilisierung-kritischer-synchroner-Plasmaprozesse-71x40.jpg?w=568&h=320)
![](https://media.trumpf.com/m/27322526b97692ca/original/HF-Umschalter-zur-Nutzung-eines-HF-Generators-an-flexiblen-Plasmasystemen-71x40.jpg?w=568&h=320)
![](https://media.trumpf.com/m/6e57d1257c7b483e/original/Koaxialkabel-zur-Ubertragung-der-spezifizierten-Leistung.jpg?w=568&h=320)
![](https://media.trumpf.com/m/6c645a84adc86c4a/original/-var-www-prod-api-var-storage-default-EE8D563E-AEDC-4041-BCF53340A415A823-3x2-Generator-und-Matchbox-eine-perfekt-aufeinander-abgestimmte-Systemlosung.jpg?w=708&h=472)
Idealne dopasowanie: zasilacz i układ dopasowujący
Procesy plazmowe zachowują się jak złożone, zmienne obciążenie, które musi być stale zasilane przez generator. Odpowiadają za to aktywne sieci dopasowywania, tzw. układy dopasowujące, które zapewniają precyzyjne dopasowanie do optymalnej impedancji 50 omów w dowolnym momencie. Rezultatem jest idealnie dobrane rozwiązanie systemowe, system TRUMPF RF. Za pośrednictwem różnych interfejsów, m.in. EtherCAT, zasilacz i sieć dopasowywania można łatwo zintegrować z istniejącym środowiskiem procesowym, a dzięki inteligentnemu połączeniu zasilacza z siecią dopasowywania, funkcjonującemu pod nazwą SystemPort, uzyskuje się optymalne rozwiązanie systemowe.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.