Chłodzony powietrzem zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 1001 Air o mocy do 1000 W dostarcza energię w zakresie wysokiej częstotliwości z wysoką precyzją i powtarzalnością przy niezwykle wysokiej rozdzielczości – 100 mW – i dzięki temu jest dedykowany przeróżnym zastosowaniom plazmowym. Niezależnie od tego, czy wytwarzane są półprzewodniki, ogniwa fotowoltaiczne czy wyświetlacze, opatentowana technologia TRUMPF Hüttinger dzięki nowoczesnym funkcjom procesu gwarantuje sumarycznie najwyższą niezawodność i najlepsze wyniki procesu.
Gwarantuje optymalne i bardzo szybkie dopasowanie częstotliwości, a dzięki temu optymalną współpracę między zasilaczem a siecią dopasowywania.
Stabilne prowadzenie zaawansowanych i innowacyjnych procesów gwarantuje ochronę produktów.
Wielopoziomowe, elastyczne sterowanie kształtem impulsu pozwala uzyskać lepsze wyniki w nowoczesnych procesach plazmowych.
Możliwe jest elastyczne użytkowanie oraz wymiana zasilacza w przypadku zmian procesu lub modernizacji.
Opatentowana technologia CombineLine gwarantuje stałą wydajność procesu dzięki impedancji wyjściowej 50 omów.
Różne poziomy mocy w obrębie rodziny produktów wysokiej częstotliwości pozwalają spełnić wszystkie wymagania procesowe.
W przypadku zmian procesu lub systemu dostosowanie kabla nie jest już konieczne.
Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Air Serii 1000 doskonale sprawdzają się w procesach plazmowych, takich jak RIE, ALD, PECVD i rozpylania RF. Procesy te są stosowane między innymi w produkcji urządzeń półprzewodnikowych i układów mikromechanicznych (MEMS), jak również do pokrywania płaskich ekranów i paneli słonecznych.
Typowe zastosowania TruPlasma RF Air Serii 1000 to wymagające procesy PECVD, wytrawiania i rozpylania RF w przemyśle fotowoltaicznym.
W produkcji półprzewodników stosuje się różne procesy plazmowe, począwszy od procesów ablacji, przez suche wytrawianie, aż po ciągnienie strefowe przy wytwarzaniu czystego krzemu. Zasilacze TruPlasma RF Air Serii 1000 dzięki stabilnemu zasilaniu prądowemu optymalnie dostosowanemu do danego procesu zapewniają uzyskanie doskonałych, powtarzalnych wyników.
Najwyższa produktywność i dostępność
Elastyczna i wytrzymała konstrukcja zasilaczy wysokiej częstotliwości umożliwia wzrost wydajności i obniżenie kosztów eksploatacji.
Stabilne procesy i powtarzalne rezultaty
Opatentowana technologia CombineLine z inteligentnym dopasowywaniem w czasie rzeczywistym gwarantuje optymalną dostępność urządzenia TruPlasma RF 1001 Air i zmniejsza częstotliwość występowania wahań plazmy i zanieczyszczeń.
Kompaktowość i elastyczne możliwości stosowania
Dzięki kompaktowej budowie (½ szerokości 19-calowej szafy rack) zasilacz wysokiej częstotliwości pozwala zaoszczędzić miejsce – to doskonałe rozwiązanie w przypadku nowych instalacji oraz modernizacji instalacji już istniejących. Liczne dostępne interfejsy (konfigurowalny interfejs analogowy, Ethernet, DeviceNet, Profibus, EtherCAT) sprawiają, że integracja jest bardzo prosta.
Wysoka dokładność
Dzięki precyzyjnemu dozowaniu energii w krokach co 100 mW zasilacze TruPlasma RF 1001 Air osiągają najlepsze rezultaty także w nowoczesnych, najbardziej wymagających zastosowaniach, takich jak ALD. Bardzo precyzyjna regulacja mocy zasilaczy wysokiej częstotliwości gwarantuje najlepszą powtarzalność wafli.
Najlepsze wyniki procesu dzięki nowoczesnym funkcjom procesowym
Cyfrowe funkcje sterujące, takie jak Smart Auto Frequency Tuning 2.0, system detekcji łuków i Multi-Level Pulsing, umożliwiają optymalne dostosowanie zasilacza wysokiej częstotliwości do każdego procesu.
Elastyczne dopasowanie do potrzeb klienta
W ramach jednolitej konstrukcji zasilacza dostępne są różne poziomy mocy oraz częstotliwości, dzięki czemu możliwa jest łatwa wymiana w przypadku zmian procesu. Dopasowanie długości kabla nie jest już także konieczne.
Sterowanie całym systemem wysokiej częstotliwości za pomocą TRUMPF SystemPort
SystemPort umożliwia zamknięty obieg sygnału poprzez pomiar sygnału RF bezpośrednio na wejściu i wyjściu sieci dopasowywania i dlatego zasilacz wysokiej częstotliwości zawsze ma do dyspozycji wszystkie wartości pomiarów. Parametry procesu są ciągle monitorowane, co pozwala chronić sieć dopasowywania i zapewnić wczesne rozpoznawanie łuku.
Moduł synchronizacji umożliwia elastyczną i pewną synchronizację większej liczby zasilaczy w złożony system plazmowy.
Przemyślany system detekcji łuków gwarantuje optymalną kontrolę procesu plazmowego. Dzięki ukierunkowanemu rozpoznawaniu łuków zwiększana jest produktywność. Dodatkowo produkt i urządzenie są chronione przed uszkodzeniami.
Najnowsze procesy plazmowe wymagają większej elastyczności w przypadku trybu impulsowego. Każdy kształt impulsu można osiągnąć za pomocą wielopoziomowego, umożliwiającego swobodny wybór trybu impulsowego. To prowadzi do zastosowania nowego mechanizmu sterowania w fizyce plazmy i do uzyskania lepszych wyników procesu.
Opatentowane rozwiązanie Auto Frequency Tuning umożliwia symultaniczną i szybką regulację częstotliwości w celu uzyskania optymalnej współpracy między zasilaczem a siecią dopasowywania. W ten sposób zagwarantowane są najlepsze wyniki procesu i wysoka powtarzalność.
Web GUI
Zintegrowany serwer internetowy umożliwia obsługę systemu wysokiej częstotliwości oraz aktualizację oprogramowania za pośrednictwem przeglądarki internetowej.
TruControl Power
Łatwe w użytkowaniu oprogramowanie sterujące pozwala na wygodne i niezawodne uruchomienie monitoringu zasilacza RF lub całego systemu TRUMPF RF w bieżącym procesie.
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.
