Idealne rozwiązanie dla zastosowań HiPIMS
Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) mogą być stosowane jako alternatywa do zasilaczy DC w istniejących systemach magnetronowych bez modyfikacji. Umożliwiają uzyskanie twardych warstw odpornych na korozję i ścieranie, są więc doskonałym wyborem do zastosowań impulsowego rozpylania magnetronowego wysokiej mocy.
Moc maksymalna wynosząca nawet 4 megawaty umożliwia generowanie plazmy o ekstremalnej gęstości o dużych strumieniach jonów.
Proste dostosowanie do istniejących systemów katod i warunków procesu pozwala na optymalną integrację urządzenia.
Najnowsze rozwiązanie impulsowych metod rozpylania magnetronowego dużej mocy pozwala przygotować twarde warstwy szczególnie odporne na korozję i na ścieranie.
Możliwość korzystania także w trybie DC, brak konieczności korzystania z dodatkowego zasilacza prądu stałego.
![](https://media.trumpf.com/m/68ea88b46f5e4b7e/original/Generator-der-TruPlasma-Highpulse-Serie-4000-G2-im-Einsatz-512x341.jpg?w=1170&h=677)
Powłoki utwardzające
Dzięki zastosowaniu funkcjonalnych powłok bardzo obciążone narzędzia do obróbki zyskują większą twardość powierzchni oraz lepszą stabilność termiczną i chemiczną. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) zapewniają stabilność procesu plazmowego, a tym samym pozwalają na uzyskanie optymalnej jakości powłoki.
![](https://media.trumpf.com/m/57b3fc505da871c8/original/Solarzellenherstellung-Derivat-512-341.jpg?w=1170&h=677)
Półprzewodniki/fotowoltaika
W obszarze półprzewodników i fotowoltaiki istnieje wiele zastosowań o zróżnicowanym zapotrzebowaniu na energię procesową. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) można optymalnie dostosować do danego procesu, co pozwala osiągnąć doskonałe parametry powlekania oraz wysoką produktywność.
![](https://media.trumpf.com/m/12aea89b8c260213/original/Ideal-fur-Groflachenbeschichtung-512x341.jpg?w=1170&h=677)
Warstwy szklane
Powlekanie dużych powierzchni szkła architektonicznego w procesie plazmowym PVD stawia wysokie wymagania w odniesieniu do zasilania procesu. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) zapewniają idealne warunki do uzyskania wysokiej jakości nanoszonych warstw.
![](https://media.trumpf.com/m/104558eb809fe2e6/original/Architekturglas-Derivat-3x2.jpg?w=708&h=472)
Optymalne wyniki procesu
Wysoka moc maksymalna pozwala na uzyskanie silnie zjonizowanej plazmy i umożliwia wysoki przepływ jonów. W ten sposób można uzyskiwać bardzo spójne i gęste folie bez kropli. Zasilacze TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) w połączeniu ze spolaryzowanymi konfiguracjami substratu oferują doskonałe wyniki w zastosowaniach związanych z trawieniem i wypełnianiem rowków.
![](https://media.trumpf.com/m/1740de990616895c/original/Arc-Management-16to9.jpg?w=708&h=472)
W pełni cyfrowy system detekcji łuków
Możliwość przestawiania czasu impulsu i częstotliwości, rozszerzone parametry mocy i w pełni cyfrowy system detekcji łuków o bardzo niskiej energii luków umożliwia proces rozpylania magnetronowego bez kropel, minimalne defekty folii i gwarantuje wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania.
![](https://media.trumpf.com/m/461373d729cabb9c/original/HF-Generator-fur-Parallelschwingkreise.jpg?w=708&h=472)
Doskonałe powłoki
Wysoka energia i wysokie napięcie do 2 kV umożliwiają wytwarzanie powłok wysokiej jakości – w niewielkich laboratoriach i w dużych instalacjach przemysłowych. Impulsy trwające do 5 ms i częstotliwości do 10 kHz podwyższają tempo osadzania i pozwalają obniżyć całkowite koszty.
![](https://media.trumpf.com/m/344c374c69f96836/original/Solarzellenherstellung-16to9.jpg?w=708&h=472)
Wysoka stabilność procesu
Regulacja mocy o zmiennej częstotliwości służy do utrzymania stałych parametrów osadzania także w przypadku wyjątkowo reaktywnych procesów. Dzięki temu procesy godzinami i dniami przebiegają stabilnie bez konieczności ingerencji.
![](https://media.trumpf.com/m/13fd42520cafdb33/original/Eine-kompakte-Einheit-TruPlasma-Highpulse-G2-3x2.jpg?w=708&h=472)
Kompaktowa jednostka
Zasilacze serii TruPlasma Highpulse są kompaktowymi jednostkami. Wymagają zewnętrznego zasilania prądem stałym, są chłodzone wodą i mogą pracować w komorze czystej.
Różnorodność opcji konfiguracji pozwala na dostosowanie zasilaczy TruPlasma Highpulse Serii 4000 (G2) do wielu zastosowań.
W pełni cyfrowy system zarządzania Arc o bardzo małej energii Arc pozwala uzyskać wysokiej jakości powłoki i dużą prędkość osadzania.
![](https://media.trumpf.com/m/6ed363b3d0058ce/original/Grafische-Bediensoftware-PVD-Power.png?w=488&h=230)
PVDPower
Przyjazne dla użytkownika, wielojęzyczne oprogramowanie PVD Power oferuje różne możliwości działania, konfiguracji i diagnostyki w celu optymalizacji jakości procesu i skutecznego rozwiązywania problemów: wyświetlanie rzeczywistych wartości wszystkich istotnych parametrów procesu, jak również ostrzeżeń i alarmów, ustawianie żądanej wartości przez operatora, nagrywanie i wizualizacja ważnych parametrów pracy z wysoką rozdzielczością czasową (oscyloskop).
W zależności od kraju możliwe są odstępstwa od podanego asortymentu i tych informacji. Zastrzega się możliwość zmian w technologii, wyposażeniu, cenie lub ofercie akcesoriów. Proszę skontaktować się z lokalną osobą kontaktową, aby ustalić, czy produkt jest dostępny w Państwa kraju.