Generatory plazmowe

Półprzewodnikowe generatory plazmowe TruPlasma serii MW są wykonane zgodnie z innowacyjną koncepcją platformy i wytwarzają największe gęstości plazmy do wymagających wymagań procesowych. Nanoimpulsy umożliwiają optymalne ustawienie różnych parametrów plazmy do żądanego zastosowania.

Zasilacze TruPlasma Bipolar serii 4000 (G2.1) dzięki elastycznie formowanym sygnałom wyjściowym i zaawansowanemu systemowi detekcji łuków zapewniają doskonałe rezultaty w produkcji półprzewodników i ogniw fotowoltaicznych przy powlekaniu szkła architektonicznego oraz nanoszeniu warstw dekoracyjnych i odpornych na ścieranie. Zasilacze najnowszej generacji są idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, takich jak reaktywne rozpylanie magnetronowe, PVD i PECVD.

Zasilacze MF TruPlasma Seria MF 7000 (G2) umożliwiają pełną kontrolę nad procesem − wynikiem tego są doskonałej jakości powłoki i wysoka produktywność nawet przy wymagających powłokach wielkopowierzchniowych. Dzięki maksymalnej sprawności wynoszącej ponad 90% zasilacze najnowszej generacji są również bardzo ekonomiczne w eksploatacji.

Zasilacze procesu TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) są doskonałym wyborem dla zastosowań HIPIMS. Umożliwiają uzyskanie twardych powłok odpornych na korozję i ścieranie. W połączeniu z polaryzowanymi surowcami urządzenia TruPlasma Highpulse serii 4000 (G2) mogą również obsługiwać aplikacje półprzewodnikowe, na przykład wytrawianie, wstępną obróbkę powierzchni i trench-filling.

TruPlasma DC Serii 4000 (G2) łączy w sobie doskonałą procedurę detekcji łuków TRUMPF Hüttinger z zaletami technologii impulsowej DC. Pozwala to osiągnąć lepsze rezultaty procesu przy mniejszej liczbie wad i jednocześnie większej szybkości osadzania. Efektem są perfekcyjne powierzchnie i wysoka efektywność produkcyjna.

Nowa generacja zasilaczy prądu stałego TruPlasma DC Serii 3000 (G2) została zaprojektowana do stosowania w wielu różnych procesach rozpylania DC wymagających materiałów. Dzięki zaawansowanemu systemowi detekcji łuków i zastosowaniu układu chłodzenia wodą, zasilacze prądu stałego są idealne jako ekonomiczna alternatywa dla zasilaczy pulsowych DC. Bardzo zwarta konstrukcja pozwala na łatwą integrację w istniejących systemach.

Zasilacze TruPlasma Arc Serii 3000 sprawdzają się przede wszystkim w przypadku nanoszenia warstw utwardzających i powłok dekoracyjnych Kompaktowa konstrukcja i chłodzenie powietrzem pozwala na optymalne wykorzystanie cennej powierzchni użytkowej i ułatwia integrację nowych lub istniejących systemów.

Chłodzony powietrzem zasilacz wysokiej częstotliwości TruPlasma RF 1001 Air o mocy do 1000 W dostarcza energię w zakresie wysokiej częstotliwości z wysoką precyzją i powtarzalnością przy niezwykle wysokiej rozdzielczości – 100 mW – i dzięki temu jest dedykowany przeróżnym zastosowaniom plazmowym. Niezależnie od tego, czy wytwarzane są półprzewodniki, ogniwa fotowoltaiczne czy wyświetlacze, opatentowana technologia TRUMPF Hüttinger dzięki nowoczesnym funkcjom procesu gwarantuje sumarycznie najwyższą dostępność i najlepsze wyniki procesu.

TruPlasma RF Seria 1000 / 3000 (G2/13) to zasilacze wysokich częstotliwości najnowszej generacji. Dzięki innowacyjnym funkcjom, takim jak opatentowana technologia sprzężenia CombineLine lub pomiar w czasie rzeczywistym wszystkich parametrów procesu zasilanie jest zapewnione także w trudnych procesach plazmowych - optymalne warunki dla powtarzalnych wyników i wysokiej produktywności.

Zasilacze wysokiej częstotliwości TruPlasma RF Serii 3000 charakteryzują się wysoką wydajnością i stabilnością procesów. Dlatego są one idealnym rozwiązaniem dla wymagających procesów plazmowych, stosuje się je do wytwarzania płaskich ekranów, kolektorów słonecznych lub elementów półprzewodnikowych. Układy dopasowujące dokładnie dostosowane do generatora dla dopasowania impedancji w każdej chwili zapewniają optymalne i stabilne przenoszenie mocy z generatora do plazmy.

Maksymalna moc dla procesu: zasilacze TruPlasma VHF Serii 3000 oparte są na innowacyjnej koncepcji platformy, która spełnia nawet najwyższe wymagania procesowe. Modułowa, chłodzona wodą konstrukcja zasilaczy VHF umożliwia uzyskiwanie mocy wyjściowej do 80 kW - i to przy zachowaniu kompaktowych rozmiarów.

Optymalne sterowanie procesu plazmowego wymaga dokładnego dopasowania impedancji wyjściowej zasilacza wysokiej częstotliwości (HF). Dbają o to układy dopasowujące TruPlasma Match Serii 1000 (G2/13) jako łączniki między zasilaczem a procesem. W ten sposób powstaje całościowe rozwiązanie dla mocy procesowej - system TRUMPF RF.