Systemy laserowe TRUMPF Scientific Lasers to nieodzowne narzędzia do wytwarzania impulsów laserowych o dużej mocy i wysokiej energii w zakresie pikosekund i femtosekund. Te wydajne źródła światła następnej generacji dostarczają impulsy laserowe o energii ponad 200 mJ lub z minimalnymi drganiami pola elektrycznego. Dzięki licznym wersjom i opcjom klienci otrzymują zawsze system dostosowany do indywidualnych potrzeb.
![](/filestorage/TRUMPF_Master/_processed_/b/4/csm_About-TRUMPF-cooperations-brands-keyvisual_15b69d9138.jpg)
Współpraca i inne marki
TRUMPF to zaawansowane technologicznie przedsiębiorstwo, projektujące i wytwarzające rozwiązania produkcyjne w zakresie obrabiarek i techniki laserowej. Ponadto istnieją inne spółki powiązane z przedsiębiorstwem, wyspecjalizowane w obszarze indywidualnych potrzeb grupy klientów. Na przykład w firmie TRUMPF oprócz klasycznych rodzin lasera do obróbki materiału istnieje wiele spółek córek, które projektują i produkują dla klientów zindywidualizowane systemy laserowe do zastosowań w badaniach.
TRUMPF Scientific Lasers
![](/filestorage/TRUMPF_Master/_processed_/a/d/csm_About-TRUMPF-cooperations-brands-scientifc-lasers_d627f872bf.png)
Portfolio
Amphos
![](/filestorage/TRUMPF_Master/_processed_/c/9/csm_About-TRUMPF-cooperations-brands-amphos_16a513f347.jpg)
AMPHOS („Amplifying Photonics”) to przedsiębiorstwo wydzielone z renomowanego instytutu Fraunhofer ILT i uczelni RWTH z Akwizgranu. Od 2018 roku należy do grupy TRUMPF. Firma AMPHOS rozwija oraz produkuje wysokiej mocy lasery ultrakrótkoimpulsowe do aplikacji naukowych i przemysłowych
Portfolio
Access Laser
![Access Laser](/filestorage/TRUMPF_Master/_processed_/5/d/csm_About-TRUMPF-cooperations-brands-access-laser_75348bde42.jpg)
Access Laser Co. produkuje laser CO2 w obszarze niskiej mocy. Najważniejszy zakres zastosowania do lasery do litografii w zakresie EUV do produkcji mikroczipów. Lasery CO2 o niskiej mocy lasera stanowią przy tym generator wiązki i są stosowane w połączeniu ze wzmacniaczami laserowymi TRUMPF w urządzeniach EUV.