De High Power Seed Module (HPSM) bestaat uit twee seed-lasers die uitgangsimpulsen van een paar watt genereren, en uit talrijke actieve en passieve optische componenten die de laserstraal vormen en voor een optimale pulsduur zorgen. Met een versterker wordt het licht voorversterkt tot circa 100 watt. De seed-lasers zijn door middel van beschermingsmechanismen optimaal beschermd tegen reflecties, waardoor de stabiliteit van het totale systeem aanzienlijk kan worden verhoogd en het benodigde constante EUV-vermogen kan worden bereikt.

De High Power Amplification Chain (HPAC) bestaat uit vier resonatoren voor het verhogen van het vermogen. Deze zijn met elkaar verbonden door straalgeleidende elementen. Elke resonator is optimaal afgestemd op het betreffende versterkingsniveau (bijv. ventilator, RF-opwekking, gasmengsel, straalgeleiding). Drie verschillende koelcircuits waarborgen daarbij de nodige stabiliteit in het systeem. Korte impulsen zorgen voor een extreem hoog piekuitgangsvermogen in het MW-bereik. Uitgebreide online metrologie levert de basis voor het permanent meten van de straal.

Het Beam Transport System (BTS) – bestaande uit opbouwplaat, periscoop en spiegels – leidt de laserstraal tot 30 meter in de richting van de druppelkamer. In principe is zowel de mechanische stabiliteit van het systeem onder de hoge vermogensbelasting als de dichtheid van de straalgeleiding van doorslaggevend belang voor een lage absorptie en vervuiling. De spiegels zijn voorzien van een speciale coating om ervoor te zorgen dat er zo min mogelijk laserlicht wordt geabsorbeerd.

De FFA bestaat uit twee installatie-onderdelen: een Optics Platform en een Focusing Unit. Om een ideale plasmaflits te genereren, moet de laserimpuls de tindruppel bijna volledig raken. Maar omdat de tindruppel kleiner is dan de diameter van de laserstraal, worden in het Optics Platform een voor- en een hoofdimpuls gescheiden en tot een optimale EUV-straal gevormd. De voorimpuls raakt de tindruppel eerst met een lager pulsvermogen, waardoor de druppel schijfvormig wordt en het oppervlak wordt vergroot. De hoofdimpuls die volgt, wordt door de ontstane vloeibare film geabsorbeerd en het eigenlijke plasma, dat EUV-straling genereert, ontstaat. Op deze manier wordt het laservermogen van 40 kilowatt efficiënt benut en wordt gegarandeerd dat plasmaflitsen voor de belichting procesveilig worden gegenereerd. De Focussing Unit zorgt voor een optimale focussering van het laserlicht op de tindruppel.