Land-/regio- en taalkeuze
TRUMPF Laser Amplifier voor de productie van hoogwaardige chips
CO2-laser

Vormt samen met de laserimpuls de basis voor de productie van toekomstige microchips.

EUV-lithografie als enabler voor het digitale tijdperk

EUV-lithografie wint de wedloop om de toekomstige methode voor het maken van microchips. Jarenlang heeft de halfgeleiderindustrie gezocht naar een kostenefficiënte en voor massaproductie geschikte methode waarmee nog kleinere structuren op siliciumwafers kunnen worden belicht. ASML, Zeiss en TRUMPF hebben nu samen een technologie ontwikkeld om extreem ultraviolet (EUV) licht met een golflengte van 13,5 nanometer voor industrieel gebruik in te zetten: In een vacuümkamer produceert een druppelgenerator 50.000 ultrakleine tindruppels per seconde. Elk van deze druppels wordt getroffen door een van de 50.000 laserimpulsen, waardoor deze in plasma veranderen. Daardoor ontstaat EUV-licht dat met behulp van een spiegel op de te belichten wafers wordt gericht. De laserimpuls voor de plasmastraling wordt geleverd door een door TRUMPF ontwikkeld, pulserend CO2-lasersysteem: de TRUMPF Laser Amplifier.

Van een paar watt naar 40 kilowatt

De TRUMPF Laser Amplifier versterkt een laserimpuls sequentieel met meer dan het 10.000-voudige.

Efficiënt en procesveilig

Door het uitzenden van een voor- en een hoofdimpuls kan het volledige vermogen van de Laser Amplifier op de tindruppels worden overgedragen.

Nieuwe toepassing voor CO2-lasers

De basis van het krachtige lasersysteem is een CO2-laser met continuwerking. Daarmee creëert TRUMPF een nieuwe toepassing voor de technologie.

Uitgebreid netwerk van specialisten

Door jarenlange nauwe samenwerking hebben TRUMPF, ASML en ZEISS de EUV-technologie geschikt gemaakt voor toepassing in de industrie.

onderdelen

... bevat een Laser Amplifier.

meter

... kabel is in het systeem ingebouwd.

kilo

... bedraagt het totale gewicht.

Centrale componenten van de TRUMPF Laser Amplifier

Deze onderwerpen vindt u misschien ook interessant

Artikelverzameling voor EUV-lithografie
In de spiegel van de media: EUV-lithografie

Ontdek meer over EUV-lithografie in onze uitgelichte artikelen uit de vak- en algemene pers.

Chips geproduceerd met TRUMPF Laser Amplifier
EUV-lithografie

Zonder extreem ultraviolet licht geen moderne computerchips. Welke rol krachtige CO2-lasersystemen van TRUMPF bij de productie van halfgeleiderstructuren spelen, leest u hier.

Visuele elektronica
Elektronica

Van laserbewerking tot het kweken van kristallen: TRUMPF levert basistechnologieën voor de fabricage van krachtige halfgeleiders in de elektronicabranche.

Contact
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Service & contact