In de spiegel van de media: EUV-lithografie

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

In dit artikel op Golem.de meldt auteur Marc Sauter dat Samsung Foundry de ontwikkeling van het 5-nm-proces met extreem ultraviolette straling (EUV) heeft voltooid en nu opdrachten van klanten aanneemt. Met dit nieuwe proces kan de dichtheid van transistoren met 25% worden verhoogd en tegelijkertijd verbruiken de chips 20% minder stroom en hebben ze 10% meer rekenkracht.

Bron: www.golem.de
Auteur: Marc Sauter
Publicatiedatum: 04/2019
Link: naar het artikel

Heise.de bericht in dit artikel dat Samsung in het najaar van 2018 is gestart met de productie in zijn eerste 7nm-fabriek en daar wafers belicht met het EUV-lithografiesysteem van ASML. Bron: www.heise.de
Auteur: Nico Ernst
Publicatiedatum: 10/2018
Link: naar het artikel

Het TRUMPF jaarverslag 2017/2018 belicht hoe de beheersing van het licht – en daarmee ook de laser en EUV-lithografie – de basis vormt voor de technologieën van de toekomst, zoals kunstmatige intelligentie, autonoom rijden en slimme fabrieken.

Bron: TRUMPF jaarverslag 2017/2018
Auteur: TRUMPF GmbH + Co. KG
Publicatiedatum: 10/2018
Link: naar het artikel

Het artikel op golem.de kondigt aan dat ASML zijn NXW:3400B-systemen zo ver heeft verbeterd dat kosten- en tijdefficiënte serieproductie met extreem ultraviolette straling binnen handbereik komt te liggen. Bron: www.golem.de
Auteur: Marc Sauter
Publicatiedatum: 07/2018
Link: naar het artikel

LaserFocusWorld schetst in dit artikel de meer dan twintigjarige ontwikkeling van de EUV-technologie en beschrijft de talrijke hordes en uitdagingen die tot aan de doorbraak in 2015 overwonnen moesten worden.

Bron: LaserFocusWorld
Auteur: Andreas Thoss
Publicatiedatum: 11/2017
Link: naar het artikel

Dit bericht in het vaktijdschrift "Produktion" gaat over het verworven meerderheidsbelang van TRUMPF in Access. Als producent van Low Power CO₂-lasers is Access Laser een van de belangrijkste partners van TRUMPF op het gebied van EUV. Bron: www.optics.org
Auteur: N.N.
Publicatiedatum: 10/2017
Link: naar het artikel

De Stuttgarter Zeitung bericht hoe TRUMPF met zijn Laser Amplifier als toeleverancier zijn intrede doet in de halfgeleiderindustrie en hiervoor een nieuwe dochtermaatschappij heeft opgericht. Bron: Stuttgarter Zeitung
Auteur: Michael Heller
Publicatiedatum: 05/2017
Link: naar het artikel

Het artikel in de weekkrant voor elektronica "Markt&Technik" vat huidige en geplande omzet- en afzetcijfers van ASML samen die bewijzen dat EUV-lithografie nu definitief zijn weg heeft gevonden naar de industrie. Bron: Markt&Technik
Auteur: Heinz Arnold
Publicatiedatum: 07/2017
Link: naar het artikel