TruPlasma RF 3000 시리즈

손실 전력의 반감과 뛰어난 효율에 따른 냉각수 비용의 저하를 통해 가동 비용이 최소화됩니다. 매우 견고한 발진기의 구조를 통해 어려운 공정에서도 더욱 긴 시간 동안 작동할 수 있으므로 코팅율이 더욱 상승합니다. True 50 Ohm 출력 임피던스를 통한 CombineLine 테크놀로지로 플라즈마 변동을 효과적으로 방지하기 때문에 완전히 안정적인 프로세스를 실행할 수 있습니다.

견고한 구조는 귀사의 프로세스에 최대 신뢰성 및 생산성을 제공합니다. 100 % 불균형 보호를 통해 위험 하중에서도 안전하게 가동될 수 있습니다. 연속 전원 출력 또는 펄스 전원 출력을 선택할 수 있어 공정 요건의 폭 넓은 값 범위를 지원합니다. 세계적으로 이미 20,000대 이상의 유닛이 설치되었습니다. 이는 다른 플라즈마 전원 공급 장치를 넘어서는 수치입니다.

SystemPort는 Matchbox의 입출력 단에서 직접적인 RF 신호 측정을 통해 하나의 제어 시스템을 가능하게 합니다. RF 발진기에서 모든 측정값을 사용할 수 있습니다. 이를 통해서 공정 파라미터의 모니터링이 향상될 수 있으며, Matchbox가 보호될 수 있으며, 조기 아크 인식을 보장할 수 있습니다. 전체 RF 시스템은 개별적인 발진기 인터페이스를 통해 제어될 수 있습니다.

플라즈마 공정은 발진기를 통해 전원 공급을 지속적으로 추적해야 하는 복잡하고 가변적인 부하와 같이 작동합니다. 플라즈마 공정은 최적화된 임피던스를 항상 50 Ohm으로 정확하게 조정하는 소위 매칭 네트워크라 하는 활성화된 조정 네트워크를 제공합니다. 이렇게 TRUMPF RF 시스템은 완벽한 상호 조화를 이루는 시스템 솔루션입니다. 특히 EtherCAT과 같은 다양한 인터페이스를 통해 발진기와 매치 박스는 매우 간단하게 사용자의 프로세스 환경에 통합될 수 있으며, 지능형 발진기 매칭 네트워크 연결, 이른바 SystemPort를 통해서 최적화된 시스템 솔루션을 달성합니다.