HiPIMS 어플리케이션을 위한 최상의 선택
TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)의 발진기는 DC 스퍼터링 발진기에 대한 대안으로, 기존의 마그네트론 시스템에서도 별도의 변경 없이 사용할 수 있습니다. 특히 내부식성 및 내마모성 경질재 코팅을 제공하며, 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링 분야에 대한 최상의 선택입니다.
최대 4 메가와트에 달하는 완벽한 최대 출력은높은 이온 유동성과 함께 극한의 플라즈마 밀도를 생성합니다.
기존의 캐소드 시스템 및 프로세스 조건에 쉽게 조정할 수 있어 최적의 장치 통합이 가능합니다.
펄스 PVD 스퍼터링 프로세스의 최신 개발로 HiPIMS는 특히 내부식성 및 내마모성 경질재 코팅을 제공합니다.
DC 모드로도 사용이 가능하며 추가적인 DC 발진기는 필요하지 않습니다.
경질재 코팅
기능성 코팅 적용에 의해 부하가 심한 공작물의 표면 경도 및 마찰 점착력이 증대되고, 열적 및 화학적 안정성이 개선됩니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)의 발진기는 안정적인 플라즈마 프로세스를 제공하여 최적의 층막 품질을 실현합니다.
반도체/광발전
광발전 및 반도체 분야에는 적합한 프로세스 에너지에 대한 수많은 응용 분야가 존재합니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)의 발진기는 각 프로세스에 최적으로 조정될 수 있어, 우수한 코팅 매개 변수와 높은 생산성을 제공합니다.
유리 코팅
PVD 플라즈마 프로세스를 통해 큰 면적의 건축용 유리를 코팅에 대한 프로세스 전원 공급 조건은 매우 까다롭습니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2) 발진기는 높은 품질의 코팅 결과를 위한 이상적인 조건을 제시합니다.
최적의 공정 성과
높은 최대 출력으로 고이온화된 플라즈마를 생성하고 높은 이온 유동성을 구현합니다. 이를 통해 액상 입자 없이 높은 응집성을 지닌 차단막을 얻을 수 있게 됩니다. TruPlasma Highpulse 시리즈 4000 (G2)의 발진기는 편광 기판 구성과 조합하여 에칭, 트렌치 충전 분야에서 월등한 결과를 제공합니다.
완전 디지털 아크 관리
조절 가능한 펄스 지속 시간와 주파수, 확장된 출력 매개 변수 및 소량의 아크 에너지를 사용하는 완전히 디지털화된 아크관리를 통해 액상입자 없는 스퍼터링과 최소한의 필름 결함을 보장하고 높은 레이어 품질 및 증착률을 구현합니다.
우수한 코팅
높은 에너지와 최대 2kV의 높은 전압을 통해 높은 품질의 코팅을 실현합니다. 소규모 실험실에서뿐 아니라 대규모 산업 시설에서도 사용 가능합니다. 최대 5ms의 임펄스와 최대 10kHz의 주파수는 분리 장치를 향상시키고 총 운영 비용을 감소하는 것에 일조합니다.
높은 공정 안정성
조절 가능한 주파수를 통한 출력 제어는 까다로운 반응 프로세스에서도 분리 매개 변수가 일관적으로 유지되도록 합니다. 이렇게 프로세스는 몇 시간, 며칠동안 조작하지 않아도 안정적으로 유지됩니다.
컴팩트 유닛
TruPlasma Highpulse 시리즈 발진기는 간편한 사이즈의 유닛입니다. 발진기는 외부 직류 전원을 필요로 하지 않으며 완전 수랭식으로 클린룸에서의 작업이 가능합니다.
TruPlasma Highpulse 시리즈 4000(G2)는 다양한 옵션을 이용하여 귀사 어플리케이션에 최적화할 수 있습니다.
매우 낮은 아크 에너지를 이용하는 완전 디지털 아크 관리를 통해 높은 층 품질 및 증착율을 구현합니다.
PVD Power
운영 친화적 다언어 소프트웨어 PVD Power는 프로세스 품질 최적화 및 효과적 고장 처리를 위한 다양한 조작, 설정 및 진단 옵션을 제공합니다: 모든 공정 관련 파라미터의 실제값, 경고 및 경보 알림의 표시, 조작자에 의한 목표값 설정 내용, 중요 운영 파라미터를 높은 시분해능으로 기록 및 시각화 (오실로코프 기능)
국가에 따라 이 제품 분류 및 기재 사항이 다를 수 있습니다. 기술, 사양, 가격 및 액세서리 제공 품목이 변경될 수 있습니다. 제품이 귀하의 국가에서 사용 가능한지에 대한 여부는 현지 담당자에게 문의하십시오.