고출력 시드 모듈(HPSM, High Power Seed Module)은 전력 소비가 적은 출력 펄스를 생성하는 두 개의 시드 레이저와 레이저 빔을 형성하고 최적의 펄스 폭을 구현하는 다양한 능동 및 수동 광학 부품으로 구성됩니다. 첫번째 증폭기를 통해 빛이 100 W 규모로 사전 증폭됩니다. 시드 레이저는 보호 메커니즘에 의해 역반사로부터 최적으로 보호되어 전체 시스템의 안정성이 결정적으로 향상되고, 필요한 EUV의 출력이 지속적으로 유지될 수 있습니다.

고출력 증폭 체인(HPAC, High Power Amplification Chain)은 출력 향상을 위해 빔 가이드 요소를 통해 서로 연결된 4개의 공명기를 하나로 결합합니다. 각각의 공명기는 각 증폭 단계에 따라 최적화되어 있습니다(예: 팬, RF 여기, 가스 혼합, 빔 가이드 등). 세 종류의 냉각 회로는 시스템에 필요한 안정성을 보장합니다. 단파 펄스는 MW 범위에서 매우 높은 피크 전력 출력을 제공합니다. 폭넓은 온라인 계측은 빔의 영구적인 측정을 위한 기반을 마련합니다.

어셈블리 보드, 페리스코프와 미러로 구성된 빔 운송 시스템(BTS, Beam Transport System)은 레이저 빔을 입자 챔버 방향으로 최대 30미터까지 이동시킵니다. 기본적으로 높은 출력 부하에 대한 시스템의 기계적 안정성 만큼이나 낮은 흡수율과 오염도에 대한 빔 가이드의 기밀성 또한 매우 중요합니다. 반사판은 특수 코팅되어 레이저 광을 적게 흡수합니다.

FFA는 광학 플랫폼과 포커싱 유닛, 두 개의 시스템 컴포넌트로 구성됩니다. 이상적인 플라즈마 섬광을 만들기 위해 레이저 펄스는 주석 입자에 거의 완벽한 수준으로 맞아야 합니다. 그러나 주석 입자의 크기는 레이저 빔의 직경보다 작기 때문에 프리 펄스와 메인 펄스가 광학 플랫폼에서 분리되어 최적의 EUV를 제조합니다. 먼저 프리 펄스는 낮은 출력의 펄스로 주석 입자와 부딪혀 입자가 디스크 모양의 구조로 팽창하고 면적이 증가합니다. 바로 그 뒤를 따라 메인 펄스가 생성된 액막에 흡수되고, EUV 레이저를 만드는 본래의 플라즈마가 생성됩니다. 이러한 방식으로 40kW의 레이저 출력이 효율적으로 활용되고 레이저 조사를 위한 플라즈마 섬광의 신뢰성 있는 제조 프로세스가 보장됩니다. 포커싱 유닛은 주석 입자에 대한 최적의 레이저 광 포커싱을 제공합니다.