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EUV 리소그래피 항목 모음

미디어의 거울: EUV 리소그래피

반도체 노출에 사용되는 극자외 레이저(EUV)는 의심의 여지 없이 반도체 산업의 차기 주제입니다. 전문 언론에서뿐 아니라 대중 언론에서도 일정 주기마다 이 주제에 관심을 갖고 기술력 개발에 대한 끈질긴 열정을 보이는 것은 놀랄 일이 아닙니다. 이 페이지에서는 일부 국가 및 국제 하이라이트 기사를 볼 수 있습니다.

Die Schwaben spielen eine entscheidende Rolle im globalen Chipgeschäft

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
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ASML's EUV systems pattern new Samsung and TSMC chips

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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삼성, 5나노미터 EUV 프로세스 개발 완료

Golem.de에서 발췌한 이 기사에서 작성자인 Marc Sauter는 삼성 파운드리가 극자외선을 이용하여  5나노미터 프로세스  개발을 완료했으며 고객의 주문을 받고 있다고 전합니다. 새 프로세스를 통해 트랜지스터 집적도가 25% 증가하며, 동시에 소비 전력이 20% 감소, 즉 처리 능력이 10% 향상됩니다.

출처: www.golem.de
저자: Marc Sauter
발표일: 2019년 4월
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삼성, EUV 노출을 도입한 7 나노미터 칩 생산해

Heise.de는 이 기사에서 삼성이 2018년 가을 자사의 첫번째 7NM 공장에서 ASML의 EUV 리소그래피 시스템을 사용하여 반도체 노출을 시행하여 생산성을 향상시켰다고 전한다.출처: www.heise.de
저자: Nico Ernst
발표일: 2018년 10월
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before time

TRUMPF 연간 보고서 2017/2018에서는 레이저 및 EUV 리소그래피가 빛의 힘을 활용하여 인공지능, 자율주행 및 네트워크 공장과 같은 미래 기술의 기반을 어떻게 제공할 것인지에 대해 설명하고 있습니다.

출처: TRUMPF 연간 보고서 GJ 2017/2018
저자: TRUMPF GmbH + Co. KG
발표일: 2018년 10월
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EUV 스캐너 가용성 85까지 향상돼

golem.de에 실린 이 기사는 ASML이 자사의 NXW:3400B 시스템을 대폭 개선하여 극자외 레이저를 통해 머지않아 비용과 시간이 효율적으로 단축되는 대량 생산 체제 구축을 달성할 수 있다고 발표했습니다.출처: www.golem.de
저자: Marc Sauter
발표일: 2018년 7월
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EUV 세대의 비밀

LaserFocusWorld는 이 기사에서 20년 이상 진행된 EUV 기술의 발달과정을 추적하고 2015년 극복해야 했던 장애물과 도전 과제들을 설명하고 있습니다.

출처: LaserFocusWorld
저자: Andreas Thoss
발표일: 2017년 11월
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TRUMPF, Access Laser와 협력하여 EUV 리소그래피 공급 체인 강화해

"Produktion" 저널의 이 보고서는 TRUMPF가 Access의 과반수를 인수한 것에 대한 내용을 다루고 있습니다. Low Power CO2 Laser의 제조사인 Access Laser는 TRUMPF의 EUV 사업 분야에서 가장 중요한 협력 업체 중 하나입니다. 출처: www.optics.org
저자: n.N.
발표일: 2017년 10월
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TRUMPF, 반도체 산업을 흔들겠다

슈투트가르터 차이퉁 신문사는 레이저 증폭기 공급업체였던 TRUMPF가 어떻게 반도체 산업에 진입했고, 또 반도체 사업을 위한 새로운 자회사를 설립했는지까지의 내용을 기술하고 있습니다. 출처: 슈투트가르터 차이퉁
저자: Michael Heller
발표일: 2017년 5월
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EUV 기술, IC 제조 분야에 도입

전자공학 전문 주간지 "Markt&Technik"에 실린 기사는 EUV 리소그래피가 마침내 업계에 도입되었음을 입증하는 ASML의 현재 매출 및 계획 판매량을 요약하고 있습니다. 출처: Markt&Technik
저자: Heinz Arnold
발표일: 2017년 7월
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본 주제에 흥미를 가질 수 있습니다.

고성능 반도체 제조에 사용되는 TRUMPF 레이저 증폭기
TRUMPF 레이저 증폭기

TRUMPF 레이저 증폭기는 차기 마이크로칩 제조의 핵심 요소인 레이저 펄스를 제공합니다. 하이테크 CO2 레이저 시스템에 대해 더 알아보십시오. 

TRUMPF 레이저 증폭기로 제조된 반도체
EUV 리소그래피

극자외선광도, 현대식 컴퓨터칩도 필요하지 않습니다. TRUMPF의 CO2 고출력 레이저 설비가 반도체 제조 공정에서 어떤 역할을 수행하는지 여기에서 확인해보시기 바랍니다.

CO2 레이저

더 견고한 재료에서도 매우 신뢰할 수 있음- TRUMPF의 TruFlow CO2는 전세계적 생산 시설에서 절단 및 용접 작업에 사용됩니다.

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