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短パルス及び超短パルスレーザ

TruPulse nano

ナノ秒加工で比類のない多才性

幅広い用途に対応可能な多才性

GTWave及びPulseTuneテクノロジを搭載した当社のパルスファイバレーザーTruPulse nanoは、TRUMPFのポートフォリオで最も多才な産業用レーザーの一つです。ナノ秒レベルのパルス持続時間で動作するこのレーザーは、様々な産業用途で使用されています。ユーザーは比類のない柔軟性を享受することができます。それに加えて、完全にメンテナンスフリーであるため、ユーザーは時間と費用の掛かるメンテナンス計画を気にすることなく、加工結果に集中することができます。

フレキシビリティー

持続性のあるマーキングが、速度と精度の高い非接触工法で生み出されます。それに加えて、レーザーマーキングでは消耗品が不要であり、マーキングがコンピュータで生成されるため、極めて高い柔軟性が得られます。

革新的な技術

当社のPulseTune対応型レーザーによって、新しいレベルに引き上げられたマイクロ加工用の拡張機能を活用すれば、パルスナノ秒テクノロジの頂点に達することができます。このレーザーでは、OEMインテグレーターはパルス幅とピーク出力を極めて柔軟に制御することができます。比類のないPulseTune機能の効果で、市場トップクラスのパルス周波数が可能になると同時に、ピーク出力の一定維持が実現します。

高い多様性

選択可能な波形は最大で48種類に及びます。各用途に合わせて主要なパルス特性を完璧に最適化することができるため、プロセス品質と生産性が向上します。

メンテナンス不要

パルスファイバレーザーはメンテナンスフリーで動作します。そのため、ユーザーは時間の掛かるメンテナンス計画を気にすることなく、常に加工結果に集中することができます。

TruPulse nanoシリーズの応用範囲とビーム品質
PulseTuneを使った高フルエンスでの多段プロセスにより、物質への損傷を最小限に抑えつつ、サビを完全に除去します。
PulseTuneを使った多段プロセスにより、物質への損傷を最小限に抑えつつ、サビを完全に除去します。
ナノ秒溶接による、異種金属接合
コーティングアルミニウムカソード材料やコーティング銅アノード材料のハイスピード切断
様々な用途に対応するアルマイト層の選択的除去
地金属表面を露出させるための、厚さのある酸化物層の除去
TRUMPFの短パルスレーザ TruPulse nano溶接アプリケーション

ナノ秒溶接

当社のレーザーは、材質、板厚や異種金属の組み合わせに左右されることなく多才な能力を発揮するため、燃料電池セルやバッテリーから医療機器製造用の細いワイヤに至るまで、様々な製品を溶接することができます。当社の特許取得済みのナノ秒溶接プロセスでは、薄い金属部品のほぼあらゆる組み合わせを接合することが可能です。それには、高反射性及び導電性の金属も含まれます。

詳細情報
TRUMPF TruPulse nanoアプリケーションドリル

穴開け

レーザー穴開けでは、レーザー光線を特定領域に繰り返しパルス照射します。そして、穴開けの対象となる部材が一層毎に蒸発して溶融し、最終的には穴が開きます。レーザー穴開けの長所は高い精度が得られることにありますが、この精度は出力密度と光線の持続時間の監視を通して入念に制御することが可能です。

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TRUMPF TruPulse nanoアプリケーション切断

切断

レーザー光線は極めて簡単にプログラミング可能であるため、様々な板厚や材質を正確に切断することができます。それには、銅、銀やアルミニウムなどの反射性金属も含めた金属だけでなく、黄銅、タングステン、鋼、錫やチタンも属します。また、ダイヤモンドなどの宝石、セラミック、グラファイト複合材料、シリコンや様々な種類のプラスチックも加工可能です。ユーザーが出力密度、光線の持続時間と入熱をいつでも完全に制御できるため、極めて複雑な形状であっても高精度で切断することが可能です。

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TRUMPF TruPulse nanoアプリケーションマーキング・エングレービング

マーキングとエングレービング

マーキングでは加工品の表面だけが処理されるのに対して、刻印では深いマーキングが施されます。レーザーを使用して、ほぼあらゆる材質に黒色の、一部の材質では色付きのマーキングを施すことができます。レーザーマーキングは、セラミック、プラスチック、金属、LED、ゴムやグラファイト複合材料などで使用されています。

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TRUMPF TruPulse nanoアプリケーションレイヤーアブレーション

表面層剥離

レーザーでは、金属の層を、又はエレクトロニクス製品での半導体やマイクロプロセッサなどでの産業化合物を正確に剥離することができます。

TRUMPF TruPulse nanoアプリケーションクリーニング

クリーニング

通常レーザークリーニングでは、高いパルス周波数、短いパルス持続時間と高いピーク出力が使用されますが、これはパルスナノ秒レーザーに打って付けです。ここでの目標は、基材を損傷せずに、表面の残留物と汚染された層を除去することにあります。レーザークリーニングは低価格で環境にやさしい使用方法であり、世界中の産業界で定着しています。

詳細情報
レーザパラメーター                                
平均最大出力 20 W 20 W 50 W 100 W 20 W 50 W 50 W 70 W 100 W 130 W 300 W 500 W 20 W 20 W 70 W 200 W
最大パルスピーク出力 > 7 kW > 7 kW > 7 kW > 7 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 10 kW > 8 kW > 8 kW > 10 kW > 12 kW > 12 kW > 20 kW > 50 kW
ビーム品質 (M²) < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 < 1.6 1.6 - 2 1.6 - 2 2.5 - 3.5 4 - 6
シャフトの長さ範囲 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1060 nm - 1070 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1059 nm - 1065 nm 1061 nm - 1067 nm
最大パルス エネルギー > 0.6 mJ > 0.8 mJ > 0.6 mJ > 1.1 mJ > 1.25 mJ > 1 mJ > 1.2 mJ > 1 mJ > 1.3 mJ > 1.5 mJ > 1.5 mJ > 2.1 mJ > 1 mJ > 0.8 mJ > 1.25 mJ > 5 mJ
プラス継続領域 10 ns - 240 ns 3 ns - 2000 ns 11 ns - 220 ns 4 ns - 2000 ns 3 ns - 2000 ns 26 ns - 250 ns 3 ns - 2000 ns 28 ns - 260 ns 4 ns - 2000 ns 5 ns - 2000 ns 12 ns - 1200 ns 20 ns - 800 ns 3 ns - 2000 ns 10 ns - 200 ns 10 ns - 250 ns 8 ns - 2000 ns
パルス繰り返し周波数 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 500 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 500 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 4000 kHz 1 kHz - 4000 kHz まで 4166 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 1000 kHz 1 kHz - 4000 kHz
構成                                
寸法(幅 x 高 x 奥行) 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 115 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 115 mm 423 mm x 417 mm x 133 mm 447 mm x 417 mm x 88 mm 622 mm x 482 mm x 177 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 347 mm x 201 mm x 95 mm 377 mm x 249 mm x 95 mm 473 mm x 417 mm x 133 mm
設置状況                                
周辺温度 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 42 °C 5 °C - 40 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 0 °C - 40 °C 10 °C - 48 °C 15 °C - 38 °C 15 °C - 43 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 45 °C 0 °C - 40 °C 10 °C - 44 °C

メンテナンス不要

TruPulse nanoファイバーレーザは、据え付けたらあとはそのまま。使用期間中にメンテナンスが要りません。したがって、運用コストの増加は想定されません。

可変パルス幅制御によるフレキシビリティ向上

TruPulse nanoシリーズなら、PulseTuneの機能を存分にご活用いただけます。ハルス幅を3 ns ~ 2 µsで選択できるので、 プロセスの最適化、生産性の向上、プロセス品質の向上で格段の柔軟性を発揮します。

高い信頼性と3年保証

当社のレーザは、24時間365日のシフト稼働にも対応する設計で、業界トップレベルの信頼性を誇ります。さらに、3年の標準保証を提供しています。ロバストなビームガイドケーブルや接続部品により、システムの接続・統合を容易にします。

シンプルな統合

TruPulse nanoレーザは統合モジュールで、スキャナレンズや制御用ハードウェア・ソフトウェアなどと組み合わせて使用することができます。当社製品は、多くのサードパーティ製ハードウェア・ソフトウェアにある業界標準インターフェースを備えています。

レーザ監視・診断用ユーザーインターフェース

すべてのTruPulse nano製品にGUIというインターフェースが備わっています。このGUIにより、ユーザーは多岐にわたる機能やレーザ監視が可能です。また、ソフトウェアによる統合にも対応しています。

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ビーム品質に関するオプション

1000シリーズ | Sタイプ (シングルモード M2 <1.3): 極小のスポット径 (<20マイクロメートル) が生み出され、高い出力安定性と深い焦点深度を得られます。小さい構造サイズが必要な用途に理想的です。

2000シリーズ | Zタイプ (M2 <1.6): 高めのピーク出力とパルスエネルギーが得られる一方で、スポット直径の増大はごくわずか。焦点深度も良好です。

3000シリーズ | Lタイプ (ローモード M2 1.6 - 2.0): スポットと目印が少し大きめの一般的なマーキング用途向けです。肉眼でマーキングを見分けることができます。

4000シリーズ | Hタイプ (ハイモード M2 ​​2.5 - 3.5): 高いパルスエネルギーとピーク出力が得られ、スポット径はさらに大きくなります。幅の広いラインに、また文字を塗りつぶすか広い領域をカバーする用途に理想的です。

5000シリーズ | Mタイプ – マルチモード (M2 4.0 - 6.0): パルスエネルギーが最も高く、パルス持続時間が長めのタイプです。溶接と清掃に理想的です。

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PulseTuneシリーズ

当社のPulseTuneシリーズの範囲内にある複数の製品の中から、ご自分の要件に合った製品をお選びください。

  • エントリーモデル、RMシリーズ (Reduced Mode) には、パルスオプションの一部と、基本的なソフトウェア/ハードウェアインターフェースが備わっています。このモデルでは2種類のPulseTune波形が利用可能であり、パルス周波数は最大500 kHzに制限されています。
  • HSシリーズ (High Specification) のモデルのメリットは、PulseTuneテクノロジ、可変選択可能なパルス幅と事前設定済みの25種類の波形です。制御性能の向上と連続波機能の調整の効果で、更に高い加工精度が得られます。パルス周波数は最大1 MHzとなっています。
  • EPシリーズ (Extended Performance) では、最適化された最大48種類のPulseTune波形から選択することができます。これは当社で最も多才なファイバレーザー装置であり、制御性能の向上と連続波機能の調整の恩恵が受けられます。それに加えて、パルスエネルギーとピーク出力も更にもう一段高められています。パルス持続時間の範囲は3-2000 ns、パルス周波数は最大4 MHzとなっています。

国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。

今すぐレンタルレーザ装置について問い合わせて、実際にご体験ください!

レーザは、ご自身の設備で実際に体験するのが一番です!当社ではアプリケーション要件についてのアドバイスを提供しているほか、レンタルレーザ装置がお客様の役に立つ方法を共同で考案しています。また、用途に適したTRUMPFレーザを、お客様の工場にて、そしてお使いの設備で最長30日間お試しいただける機会を提供しています。

ホワイトペーパー

PDF - 399 KB
ナノ秒パルスファイバーレーザによる切断
各種材料のスキャナーベースの遠隔切断の詳細をご覧ください。
PDF - 909 KB
ナノ秒パルスファイバーレーザによる溶接
異種金属接合の詳細をご覧ください。

お客様向け情報

プロセス最適化
アプリケーションコンサルティング

お客様はTRUMPFのアプリケーションコンサルティングを通して、知識を拡大して自分のプロセスを最適化することができます。

Microprocessing with TRUMPF products
マイクロ加工

マイクロ生産技術において、再現性のある制御型の超精密加工が必要な場合には、必ず短パルスレーザが使用されます。

科学用レーザー技術のイメージ
科学用レーザ

TRUMPF Scientific Lasersはカスタマイズされた革新的なソリューションを最高品質で開発しています。これらは主に研究分野で使用されます。

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