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TRUMPFパルスレーザ技術のイメージ

TRUMPFのパルスレーザは、短いエネルギーパルスを高いパルス出力で実現します。このためコスト効率が高く、ほぼ全ての金属材料の低加熱によるスポット溶接及びシーム溶接に理想的です。数十年来、TRUMPFのパルスレーザにより広範囲にわたる製品及び加工品が溶接されてきました。TRUMPFのパルスレーザは微細材料加工とレーザマーキングでも使用されています。パルスレーザの特長は高い堅牢性とモジュール構造です。このレーザはもはや工業生産技術の一部となり不可欠なものとなっています。

TruPulse

TruPulse

パルス固体レーザTruPulseは多種多様な材質を経済的に溶接します。短パルスでピーク出力がマルチキロワットのこの装置は、入熱量の低いスポット溶接及びシーム溶接に理想的です。パルスエネルギーとビームガイドは、それぞれのアプリケーションに合わせて簡単かつ個別にカスタマイズすることができます。

TruDisk Pulse、効率的な銅溶接

TruDisk Pulse

高出力レーザーTruDisk Pulseは、銅などの高反射材料の要求に合わせて専用開発されました。

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TruPulse nano

GTWave及びPulseTuneテクノロジを搭載したTRUMPFのパルスファイバレーザーTruPulse nanoは、ナノ秒領域で抜きん出て最も多才な産業用レーザーの一つです。

お客様向け情報

TRUMPF製品の多様な用途
アプリケーション

ご自分のアプリケーションに合わせて完璧に調整されたTRUMPF製品が見つかります!

Alle TRUMPF TruMark Beschriftungslaser auf eine Blick
マーキングレーザ

様々なレーザ出力によるTRUMPFのマーキングレーザは、既存のマーキングシステムに追加導入できます。一般的な波長で提供されているこのレーザは、エングレービング、アブレーション、アニーリング、変色や発泡などに適しています。

短パルス及び超短パルスレーザ

TRUMPFの短パルス/超短パルスレーザは、切断、穴開け、アブレーション、ストラクチャリングなどのマイクロ加工向けの成熟したツールです。

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