最高レベルのプラズマ密度が得られ、極めて難度の高いプロセス要件に対応可能な高安定性・高出力ソリッドステートプラズマジェネレーター
TruPlasma MWシリーズのジェネレーターはソリッドステート技術に基づいており、マグネトロンベースのマイクロ波増幅器よりも大幅に高い周波数精度が得られます。革新的なプラットフォームコンセプトでは、最高レベルのプラズマ密度が得られるほか、極めて難度の高いプロセス要件にも効率的かつ経済的に対応可能です。また、モジュール構造が採用されているため、出力の拡大縮小を正確に行うことも可能です。しかも電力供給は常に一定に保たれ、プロセス品質が低下することは全くありません。最新のプロセス機能を搭載したTruPlasma MWシリーズは、半導体、ソーラーセルやディスプレイの製造で、最高の仕上がりと最大限の信頼性に貢献しています。
ナノセカンド領域での革新的なパルス発生により、最高のプラズマプロセス制御が可能になります。
自動周波数調整により、最適なプロセス結果と高い再現性が保証されます。
マルチアンテナシステムでは、複数の異なるジェネレーターを位相同期で運転してパルスを発生させることができます。個々のジェネレーター間で位相関係を変えることで、プラズマの均一性が広範囲にわたって得られます。
このジェネレーターは確実に機能し、誤整合があった場合でもプロセス品質が低下することはありません。
高精度のデジタル周波数変調からは、再現性の高いプロセス結果、最高レベルの膜品質と生産性というメリットが得られます。
デジタルインターフェースEtherCatを使用して、装置を1ミリセカンド以内に瞬時に制御することが可能です。その結果、正確なプラズマ分布が実現します。
ソーラーセルの製造
太陽光発電分野では、スパッタリングやPECVDなどのプラズマプロセスが材料の成膜と剥離に使用されています。 TruPlasma MWシリーズのジェネレーターは、様々なプロセスに合わせて迅速に調整可能であり、高い生産性と最高級のプロセス結果が保証されます。 エネルギー量の正確な配分が可能であるため、極めて難度の高い最先端のアプリケーションであっても最高の結果が得られます。 また、高精度の出力制御の効果で、ウェーハごとに最高レベルの繰り返し精度が実現します。
半導体の製造
プラズマジェネレーターは半導体製造時の多種多様なプラズマプロセスで使用されており、それにはドライエッチングやシリコン製造時のフローティングゾーン法などが含まれています。 当社のTruPlasma MWシリーズからは、これらのプロセスすべてで電力が最適に供給されます。
フラットパネルディスプレイのコーティング
フラットパネルディスプレイのコーティングにおいて、当社のTruPlasma MWシリーズのジェネレーターは、PECVD、ALDやRIEなどのプラズマプロセスで威力を発揮しています。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
