均一かつ正確で再現性の高いマイクロ波加熱
これまで産業用マイクロ波プロセスでは、加熱プロセスに影響を及ぼして、狙い通りの温度分布や再現性の高い結果を得ることはほとんどできませんでした。ですが今では、正確かつ迅速に制御可能な半導体ジェネレーターを使用することで、機械式可動コンポーネントや手間のかかるアプリケーター修正なしで、加熱プロセスを的確に最適化することが可能になりました。TruHeat MWシリーズでは、出力をアプリケーターの正確な共振周波数に合わせて非常に効率的に結合することができるため、結合出力が大幅に高まります。各種のセラミックス、プラスチックやガラスなどの材料の複雑な加熱プロセスも、誘電損失をごくわずかに抑えた形で初めて実現可能になりました。
内蔵型サーキュレーターが標準装備されているため、このジェネレーターは誤整合(全反射)の場合でも連続運転することができます。
周波数を素早く切り替えることで、様々なフィールド分布もしくは加熱パターンを組み合わせて、狙い通りの温度分布を得ることが可能になります。
マルチアンテナシステムでは、複数の異なるジェネレーターを位相同期で運転してパルスを発生させることができます。個々のジェネレーター間で位相関係を変えることで、フィールド・温度の均一性が非常に高いレベルで得られます。
ジェネレーターはパルス制御可能であるため、プラズマをナノ秒領域で極めて正確に制御して、プラズマ温度を最適に調整し、非熱プラズマを生成することが可能になります。
デジタルインターフェースEtherCatを使用して、装置を1ミリセカンド以内に瞬時に制御することが可能です。そのため、高精度の加熱と非常に正確な加工結果が得られます。
既存の設備や使用を中止した設備の装備を簡単に変更して、技術的に大幅に改良された状態で再び使用開始することができます。その後その設備は中断なしで稼働するため、一度投資するだけで収益性の向上も可能になります。
TruHeat MWシリーズのジェネレーターの稼働時間は、従来のマグネトロン型の約20倍に達します。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。