TruPlasma RF Air 1000シリーズ

信頼できる精度

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空冷式高周波ジェネレータTruPlasma RF 1001 Airからは、最大1000 Wの高精度で再現性のある高周波電力が供給され、100 mW単位の極めて精緻な設定が可能であるため、多種多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、ソーラーセルやディスプレイの製造などの用途を問わず、TRUMPF Hüttingerの特許取得済み技術と最新のプロセス機能により、常に最高の信頼性と最善の加工結果が保証されます。

スマート自動周波数チューニング

極めて迅速で最適な周波数調整が保証され、それに伴ってジェネレータとマッチボックスの最適な連携作業が確実に実現します。

高精度のアーク管理

要求の高い新しいタイプのプロセスでも安全に制御されるため、製品の保護が保証されます。

マルチレベルパルス幅変調

パルス波形が複数のレベルで柔軟に制御されるため、最新のプラズマプロセスでの加工結果が向上します。

プラグ&プレイ

プロセス変更やレトロフィットの際に、ジェネレータの使用と交換を自由自在に行うことができます。

安定したプラズマプロセス

特許取得済みのCombineLineテクノロジーでは、真の50 Ωの出力インピーダンスにより均一な処理能力が保証されます。

一様のジェネレータ技術

高周波製品群内に様々な出力クラスが揃っているため、あらゆるプロセス要件をカバーすることができます。

高周波ケーブル長は無関係

プロセス変更又はシステム変更時にケーブル長を適応させる必要がなくなりました。

TruPlasma RF Air 1000シリーズの高周波ジェネレータは、RIE、ALD、PECVD、RFスパッタリングなどのプラズマプロセスに最適です。これらの手法は、半導体部品および微小電気機械システム (MEMS) の製造、ならびにフラットパネルディスプレイ及びソーラーセルのコーティングなどで利用されます。

TruPlasma RF Air 1000シリーズの典型的な用途は、ソーラー産業における難度の高いPECVD、エッチング及び高周波スパッタリングプロセスです。

半導体製造の際には、ドライエッチングによる除去プロセスから、純珪素製造における浮遊帯溶融法に至るまで、様々なプラズマプロセスが実行されます。TruPlasma RF Air 1000シリーズのジェネレータは、各プロセスに合わせて最適に調整され、安定した電力供給を確保する必要条件をすべて備えているため、再現性のある優れた結果が得られます。

最高の生産性と稼働率

高周波ジェネレータはフレキシブルで堅牢な設計になっているため、スループットの向上と運転コストの低下が可能です。

安定したプロセス、再現性のある結果

インテリジェントなリアルタイムマッチングを備えた特許取得済みのCombineLineテクノロジーは、TruPlasma RF 1001 Airの最適な稼働率を保証し、プラズマ変動や汚れを確実に防止します。

コンパクトでフレキシブルに使用可能

コンパクトに設計 (19インチラックのハーフサイズ) されたこの高周波ジェネレータでは、必要なスペースが極めてわずかであるため、新規設置及び既存設備へのレトロフィットソリューションに理想的です。多数のインタフェース (設定可能なアナログインタフェース、EtherNet、DeviceNet、PROFIBUS, EtherCAT) が利用可能であるため、統合は極めて簡単です。