TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズ

高いピーク出力により高度にイオン化したプラズマが生み出され、イオンが大量に流れるようになります。それにより、微小液滴のない極めてコヒーレントで高密度の膜が生成可能になります。TruPlasma Highpulse 4000 (G2) シリーズのジェネレータでは、分極した基質構成と組み合わせることで、エッチングやトレンチフィリング用途で卓越した結果が得られます。

設定可能なパルス時間/周波数、拡張型出力パラメータと、アークエネルギーが極めてわずかなフルデジタルアーク管理により、液滴のないスパッタリングと欠陥がほとんどない膜が実現し、高い膜品質と析出率が保証されます。

高エネルギーと最大2 kVの高電圧により、高品質コーティングが小さな研究室でも大型の工業設備でも実現します。最大5 msのパルスと最大10 kHzの周波数により析出率が高まり、トータル運用コストの削減につながります。

周波数の設定が可能な出力制御により、析出パラメータが要件の高い反応性プロセスであっても一定に保たれます。その結果、介入する必要性が発生することなく、何時間にも何日にもわたってプロセスの安定性が維持されます。

TruPlasma Highpulseシリーズのジェネレータは、コンパクトサイズのユニットです。外部の直流電力供給装置が不要であり、完全に水冷式であるため、クリーンルームでの作業が可能になります。