最新世代のバイポーラパルスジェネレータ
PVD、PECVD及び反応性スパッタリングプロセスによるプラズマコーティング専用に開発されたTruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。
極めてわずかなアークエネルギー
最高のコーティング品質と生産性を実現する完全デジタル式のアーク管理
調整可能な波形
様々な出力信号により異なるプロセスに合わせて容易にカスタマイズ可能
1つのジェネレータで多数のアプリケーションに対応
直流、パルス直流、バイポーラ: 多様な設定オプションでコスト削減
内蔵型水冷
外部コンポーネントは不要であるため非常に省スペース
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
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