最新世代のバイポーラパルスジェネレータ
PVD、PECVD及び反応性スパッタリングプロセスによるプラズマコーティング専用に開発されたTruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) シリーズのプロセス電力供給装置では、柔軟に構成可能な出力信号及び洗練されたアーク管理により、ソーラーセルや半導体の製造、装飾的で耐摩耗性の膜のコーティング、並びに建築用ガラスのコーティングの際に、極めて優れた結果が得られます。
最高のコーティング品質と生産性を実現する完全デジタル式のアーク管理
様々な出力信号により異なるプロセスに合わせて容易にカスタマイズ可能
直流、パルス直流、バイポーラ: 多様な設定オプションでコスト削減
外部コンポーネントは不要であるため非常に省スペース
最高クラスの電力供給
典型的な使用領域は、半導体と太陽光発電部品の生産、建築用ガラスのコーティング、ならびに装飾的で耐摩耗性の高い最高品質膜の製造です。その際、特にPVDおよびPECVDプロセスが使用されます。
完璧な膜、高い生産性
フルデジタルアーク管理は、極めてわずかなアークエネルギーで、高い膜品質と析出率を実現します。TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) は、難度の高い反応性プロセスにおいても常に均一なプロセス電力供給を確保し、安定したプラズマ状態を保証します。
フレキシビリティーの向上、費用削減
TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) のジェネレータは、波形を調整することにより、様々なプロセス要件に合わせて非常に簡単にカスタマイズできます。出力信号 (直流、パルス直流またはバイポーラ) は柔軟に選択できるため、ジェネレータを様々な用途に使用できるようになり、トータル運用コスト (TCO) の削減にもつながります。
1体のハウジングにすべてを統合
水冷は環境要因から保護されたジェネレータハウジングに完全に内蔵されているため、外部コンポーネントは不要です。
PVD Power
使いやすく、複数の言語に対応するソフトウェアPVD Powerにより、プロセス品質の最適化と効果的なトラブルシューティングを目的として、様々な操作、構成及び診断を行うことができます: 関連する全プロセスパラメータの実測値、警告、アラームメッセージの表示、オペレータによる規定値の指定、及び高い時間分解能による重要な運転パラメータの記録と可視化 (オシロスコープ機能)。
様々なシステムコンポーネントを選択することで、バイポーラパルスジェネレータをお使いのシステム環境に合わせて最適にカスタマイズできます。
様々な接続標準規格に対応できるように、異なる仕様のケーブルとコネクタを提供しています。
国によっては、この製品ラインナップと製品情報が異なる場合があります。技術、装備、価格及び提供アクセサリーは変更されることがあります。 現地担当者に問い合わせて、国内で製品を入手できるかどうかを確認してください。
