Durch Materialabtrag werden aus dünnen Schichten die Strukturen für elektronische Bauelemente herausgearbeitet. Dabei entstehen z.B. Leiterbahnen oder Transistoren. Durch Ionisation der Moleküle eines Prozessgases entstehen Ionen, die im elektrischen Feld des Plasmas zur Substratoberfläche hin beschleunigt werden.
Reaktives Ionenätzen ermöglicht einen richtungsselektiven Abtrag, der Voraussetzung für die Fertigung von mikroelektronischen Bauelementen und MEMS (Micro electro-mechanical systems) ist. Zur präzisen Steuerung von Ionenfluss und Ionenenergie werden verschiedene Generatoren mit unterschiedlichen Anregungsfrequenzen zur Erzeugung der Biasspannung eingesetzt.