La litografia EUV sotto la lente d'ingrandimento dei media

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
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Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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In questo articolo su Golem.de, l'autore Marc Sauter riferisce che la divisione Foundry di Samsung ha completato lo sviluppo del processo a 5 nm con radiazione ultravioletta estrema (EUV): gli ordini dei clienti non si sono fatti attendere. Il nuovo processo consente di aumentare del 25% lo spessore dei transistor; allo stesso tempo viene ridotto del 20% il consumo dei chip e rispettivamente aumentata del 10% la potenza di calcolo.

Fonte: www.golem.de
Autore: Marc Sauter
Data di pubblicazione: 04/2019
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In questo articolo, Heise.de informa che nell'autunno 2018 Samsung ha avviato nella sua prima fabbrica la produzione di chip a 7 nm, dove l'esposizione dei wafer viene eseguita con il sistema di litografia EUV di ASML. Fonte: www.heise.de
Autore: Nico Ernst
Data di pubblicazione: 10/2018
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La relazione di bilancio TRUMPF 2017/2018 evidenzia come la predominanza della luce, e quindi anche il laser e la litografia EUV, rappresenti la base per le tecnologie del futuro, come l'intelligenza artificiale, la guida autonoma e le fabbriche interconnesse.

Fonte: relazione di bilancio TRUMPF esercizio 2017/2018
Autore: TRUMPF GmbH + Co. KG
Data di pubblicazione: 10/2018
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L'articolo pubblicato su golem.de annuncia che ASML ha apportato ai suoi sistemi NXW:3400B miglioramenti di entità tale da rendere accessibile una produzione in serie redditizia in termini di costi e tempo grazie alla radiazione ultravioletta estrema. Fonte: www.golem.de
Autore: Marc Sauter
Data di pubblicazione: 07/2018
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In questo articolo LaserFocusWorld delinea lo sviluppo ultraventennale della tecnologia EUV e descrive i numerosi ostacoli e le sfide che sono stati superati per arrivare al successo del 2015.

Fonte: LaserFocusWorld
Autore: Andreas Thoss
Data di pubblicazione: 11/2017
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Questa relazione della rivista specializzata "Produktion" si occupa dell'acquisizione della maggioranza di Access da parte di TRUMPF. Quale produttore di laser a CO₂ low power, Access Laser è uno dei più importanti partner di TRUMPF nel settore EUV. Fonte: www.optics.org
Autore: n.d.
Data di pubblicazione: 10/2017
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Lo Stuttgarter Zeitung relaziona su come TRUMPF con il suo amplificatore laser sia diventata fornitore dell'industria dei semiconduttori e abbia fondato una nuova affiliata dedicata a questo ramo del business. Fonte: Stuttgarter Zeitung
Autore: Michael Heller
Data di pubblicazione: 05/2017
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L'articolo del settimanale per l'elettronica "Markt&Technik" riepiloga le cifre relative al fatturato e alle vendite attuali e previste da ASML, a dimostrazione del fatto che oggi la litografia EUV è giunta definitivamente al punto d'arrivo in questo settore. Fonte: Markt&Technik
Autore: Heinz Arnold
Data di pubblicazione: 07/2017
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