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Amplificatore laser TRUMPF per la produzione di chip ad alte prestazioni
Laser CO2

Con l'impulso laser crea le basi per la produzione dei futuri microchip.

Litografia EUV come attivatore dell'era digitale

La litografia EUV è il procedimento vincente per la produzione dei futuri microchip. Per molti anni l'industria dei semiconduttori ha cercato un procedimento redditizio e utilizzabile in serie che permettesse di esporre strutture ancora più piccole su wafer di silicio. ASML, Zeiss e TRUMPF hanno collaborato allo sviluppo di una tecnologia capace di generare luce ultravioletta estrema (EUV) con una lunghezza d'onda di 13,5 nanometri per utilizzo industriale: in una camera a vuoto un generatore rilascia 50.000 piccolissime gocce di stagno. Ciascuna di queste gocce viene colpita da uno dei 50.000 impulsi laser che la trasforma in plasma. La luce EUV così generata viene deviata da uno specchio collettore per consentire l'esposizione dei wafer. L'impulso laser necessario per l'irraggiamento del plasma è fornito da un sistema laser a CO2 pulsante sviluppato da TRUMPF: l'amplificatore laser TRUMPF.

Da pochi watt a 40 kilowatt

L'amplificatore laser TRUMPF amplifica sequenzialmente un impulso laser più di 10.000 volte.

Efficienza e sicurezza di processo

L'emissione di un pre-impulso e di un impulso primario permette di trasferire tutta la potenza dell'amplificatore laser alle gocce di stagno.

Nuova applicazione per laser a CO2

Alla base del sistema laser ad alte prestazioni c'è un laser a CO2 in funzionamento CW. Così TRUMPF crea una nuova applicazione per la tecnologia.

Ampia rete di specialisti

La lunga e stretta collaborazione tra TRUMPF, ASML e ZEISS ha permesso di portare la tecnologia EUV a uno stadio maturo per la produzione industriale.

Componenti

… comprende un amplificatore laser.

metri

... i cavi sono integrati nel sistema.

chilogrammi

... di peso complessivo.

Componenti centrali dell'amplificatore laser TRUMPF

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