Il modulo HPSM (High Power Seed Module) è formato da due seed laser che generano impulsi in uscita di pochi watt, nonché da numerosi componenti ottici attivi e passivi, che formano il raggio laser e assicurano la durata ottimale degli impulsi. Un primo amplificatore preamplifica la luce a un ordine di grandezza di 100 W. I seed laser sono ottimamente protetti dalle retroriflessioni mediante specifici meccanismi, che permettono il decisivo aumento di stabilità del sistema complessivo e il raggiungimento della potenza EUV costante necessaria.

La High Power Amplification Chain (HPAC) è composta da quattro risonatori per l'aumento della potenza, collegati tra loro da elementi che fungono da guida del raggio. Ogni risonatore è ottimizzato per il rispettivo stadio di amplificazione (ad es. soffiante, eccitazione RF, miscela di gas, guida del raggio). Tre differenti circuiti di raffreddamento garantiscono la stabilità necessaria nel sistema. Impulsi brevi assicurano una potenza di uscita di picco molto alta nel range dei MW. La metrologia online complessiva rappresenta la base per la misurazione permanente del raggio.

Il Beam Transport System (BTS), composto da piastra di appoggio, periscopio e specchio, trasporta il raggio laser fino a 30 metri in direzione della camera di generazione delle gocce. La stabilità meccanica del sistema in condizioni di elevato carico e la tenuta stagna della guida del raggio sono entrambe decisive per il mantenimento di bassi livelli di assorbimento e imbrattamento. Gli specchi sono provvisti di un rivestimento speciale che riduce al minimo l'assorbimento della luce laser.

L'FFA è formato da due componenti: una piattaforma ottica e un'unità di focalizzazione. Per generare un lampo plasmatico ideale, l'impulso laser deve colpire completamente la goccia di stagno. Poiché la goccia di stagno è più piccola del diametro del raggio laser, nella piattaforma ottica il pre-impulso viene separato dall'impulso primario per ottenere la generazione di luce EUV ottimale. Il pre-impulso colpisce la goccia di stagno prima con una minore potenza, in modo che la goccia si gonfi fino ad assumere una struttura a disco e la superficie aumenti. L'impulso primario immediatamente successivo viene assorbito dal film liquido generato; ha così origine il plasma vero e proprio che genera la radiazione EUV. Vengono così sfruttati efficientemente i 40 kilowatt di potenza laser, garantendo che i lampi plasmatici per l'esposizione siano generati in sicurezza di processo. L'unità di focalizzazione assicura una concentrazione ottimale della luce laser sulla goccia di stagno.