Innovativa, modulare, scalabile: la nuova piattaforma di generatori di TRUMPF Hüttinger
I generatori TruPlasma VHF Serie 3000 si basano su di un concetto di piattaforma innovativo che permette massimi valori di irradianza soddisfacendo i requisiti di processo più severi. La struttura modulare raffreddata esclusivamente ad acqua permette di riprodurre in scala la potenza di uscita sino ad 80 kW. Inoltre, i compatti generatori VHF convincono per la loro alta redditività e il loro robusto design.
Ciò permette di ottenere il miglior controllo del processo al plasma per il pulsing single level e multi level.
Permette un controllo flessibile del comportamento d'innesco del generatore.
Adattamento automatico della frequenza per un'interazione ottimale fra il generatore e la rete di adattamento.
Risultati di processo eccellenti e riproducibili, grazie alla modulazione di frequenza digitale di alta precisione.
Non è necessario adattare la lunghezza del cavo HF in caso di cambi di processo, quindi tempi di attrezzaggio più brevi.
Funzionamento affidabile del generatore, anche in caso di disadattamento, grazie alla tecnologia CombineLine.
Produzione di celle solari
Nel settore del fotovoltaico, l'energia di processo su misura viene utilizzata in numerosi campi di applicazione. Per il riporto e l'asportazione di materiale trovano impiego diversi processi al plasma, ad es. i processi di sputtering, PECVD oppure di incisione. I generatori TruPlasma VHF Serie 3000 possono essere adattati in maniera ottimale ai rispettivi processi, mentre la gestione dell'arco permette un comando stabile del plasma. Questo garantisce eccellenti risultati di processo ed un'elevata produttività.
Produzione di semiconduttori
Nella produzione di semiconduttori trovano impiego diversi processi al plasma, dai processi di asportazione, passando per l'incisione a secco fino alla fusione a zone nella produzione di silicio puro. I generatori TruPlasma VHF Serie 3000 offrono tutti i presupposti per un'alimentazione elettrica stabile ed adattata alla perfezione al rispettivo processo, in modo da garantire risultati eccellenti e riproducibili.
Idoneità per il rivestimento di schermi piatti e di pannelli touch
I generatori TruPlasma VHF Serie 3000 sono ideali per processi al plasma quali RIE, ALD, PECVD e sputtering RF. Questi processi vengono impiegati fra l'altro nella produzione di elementi costruttivi a semiconduttore e di sistemi micromeccanici (MEMS) nonchè nel rivestimento di schermi piatti e di pannelli solari.
Adattamento flessibile al processo
Il concetto di piattaforma modulare del TruPlasma VHF Serie 3000 permette una realizzazione in scala della potenza di uscita sino a 80 kW. Grazie alla tecnologia CombineLine, il generatore si dimostra molto robusto anche in caso di disadattamento. Il suo ampio campo di frequenza come anche la tensione di rete e la lunghezza del cavo variabili permettono un adattamento flessibile ad applicazioni differenti e l'uso in diversi paesi.
Massima efficienza e redditività
I generatori HF TruPlasma VHF Serie 3000 sono realizzati completamente in base alla più moderna tecnica dei semiconduttori con transistor di potenza LDMOS.. La tecnica costruttiva planare ad alta integrazione permette massimi valori di irradianza e allo stesso tempo un'elevata efficienza energetica con ridotta potenza di raffreddamento. In tale maniera, questa famiglia offre in questo campo di frequenza una redditività mai vista prima e riduce i costi di esercizio che si riscontrano normalmente sul mercato.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort permette di chiudere il circuito di regolazione misurando il segnale RF direttamente sull'entrata e sull'uscita della rete di adattamento. Tutti i valori rilevati vengono messi a disposizione del generatore RF. Sono così garantiti un controllo migliore dei parametri di processo, la protezione della rete di adattamento e un tempestivo riconoscimento di archi. L'intero sistema RF può essere controllato anche mediante una singola interfaccia del generatore.
Le diverse opzioni permettono di adattare in modo ottimale il generatore VHF all'applicazione specifica.
Il modulo Arc Management è la soluzione ideale per il miglior controllo del processo al plasma. Un riconoscimento mirato degli archi garantisce la massima produttività possibile e protegge contemporaneamente il prodotto e l'impianto.
Forma d'impulso flessibile: la forma del segnale di uscita può essere adattata a piacere ai relativi requisiti di processo.
La soluzione brevettata Auto Frequency Tuning permette l'adattamento simultaneo e veloce della frequenza e assicura un'interazione ottimale fra il generatore e la rete di adattamento. Grazie a questa tecnologia brevettata, condizioni minime locali non sono più un ostacolo: il sistema RF viene portato in stato ottimale, permettendo così di ottenere i migliori risultati di processo e un'elevata riproducibilità.
TruControl Power
Il software di comando user-friendly TruControl Power consente l'agevole messa in funzione comoda ed un controllo sicuro del generatore HF o dell'intero sistema RF TRUMPF nel processo corrente.
Tramite la selezione di componenti di sistema idonei è possibile adattare in maniera ottimale il generatore HF ai requisiti della propria applicazione.
Abbinamento perfetto: il sistema RF di TRUMPF
I processi al plasma si comportano come un carico complesso e variabile a cui il generatore deve fornire continuamente alimentazione elettrica. Ciò avviene tramite reti di adattamento attive, le cosiddette matchbox, che garantiscono un preciso adattamento all'impedenza ottimale di 50 ohm in qualsiasi momento. Nasce così un sistema perfettamente abbinato, il sistema RF TRUMPF. Le varie interfacce, come ad es. EtherCAT, consentono di integrare molto facilmente generatore e rete di adattamento nell'ambiente di processo esistente e ottenere una soluzione di sistema ottimizzata mediante una connessione intelligente tra generatore e rete di adattamento, la cosiddetta SystemPort.
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