Una solida soluzione di sistema RF
Le nuove matchbox del TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) rappresentano il completamento ideale dei generatori HF di TRUMPF Hüttinger. Grazie all'intelligente algoritmo di matching e alla piattaforma di comando digitale per la sorveglianza del processo si dispone di una soluzione completa in cui tutti i componenti funzionano in maniera perfettamente coordinata: il sistema RF TRUMPF.
Adattamento dell'impedenza a 50 ohm veloce, stabile e riproducibile anche in processi critici.
Software all'avanguardia e comunicazione migliorata tra generatore e rete di adattamento.
Correzione rapida del sistema a ogni variazione dell'impedenza della rete di adattamento.
Controllo ottimale dei parametri di processo e rapido riconoscimento degli archi.
Interfaccia utente grafica e tool efficaci (diagramma di Smith, oscilloscopio in tempo reale).
Produzione di semiconduttori, di celle solari e di schermi piatti
Nella produzione di semiconduttori, di celle solari e di schermi piatti è di decisiva importanza disporre di processi al plasma stabili. In abbinamento ai generatori HF di TRUMPF Hüttinger, le matchbox TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) rappresentano una soluzione completa per una stabilità di processo ed una produttività elevate.
Applicazione di strati protettivi in metallo duro e antiusura
L'applicazione di strati funzionali su pezzi soggetti ad alte sollecitazioni meccaniche crea una maggiore durezza meccanica, come anche una migliore stabilità termica e chimica. Le matchbox TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) insieme a un generatore HF di TRUMPF Hüttinger garantiscono una perfetta qualità del rivestimento.
Asportazione di materiale e rivestimento di superfici
Le matchbox TruPlasma Match Serie 1000 (G2/13) possono essere utilizzate in tutti i comuni processi al plasma per il rivestimento o per l'asportazione di materiale su superfici, come ad esempio l'incisione al plasma, l'incisione ionica reattiva, ALD, PECVD, sputtering RF oppure trattamenti di plasma photoresist ashing. Insieme ad un generatore HF di TRUMPF Hüttinger vengono ottenuti risultati di processo ottimali.
Per un controllo di processo perfetto in qualsiasi momento
La matchbox garantisce in qualsiasi momento un adattamento rapido e diretto dell'impedenza a 50 ohm, permettendo al generatore HF di fornire al processo sempre la massima potenza. La comunicazione diretta fra la rete di adattamento e il generatore permette il monitoraggio ottimale del processo ed il tempestivo riconoscimento di archi.
Tutti i parametri sotto controllo
La misurazione in tempo reale della potenza di ingresso e di uscita HF segnala variazioni dinamiche dell'impedenza, mentre i sensori di raffreddamento permettono una previsione affidabile della potenza dissipata. Grazie al software grafico del sistema di comando con opzioni di visualizzazione complesse (carta di Smith, oscilloscopio in tempo reale), è possibile tenere sempre sotto controllo tutti i parametri di processo rilevanti.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort permette di chiudere il circuito di regolazione misurando il segnale RF direttamente sull'entrata e sull'uscita della rete di adattamento. Tutti i valori rilevati vengono messi a disposizione del generatore RF. Sono così garantiti un controllo migliore dei parametri di processo, la protezione della rete di adattamento e un tempestivo riconoscimento di archi. L'intero sistema RF può essere controllato anche mediante una singola interfaccia del generatore.
Misurazione della corrente alternata ad alta precisione per il rilevamento di anomalie del plasma, posizionata nella matchbox vicino al processo, direttamente sulla camera.
Le interfacce opzionali disponibili sono analogiche e digitali, PROFIBUS ed EtherCAT. Quelle standard sono EtherNet, SystemPort e RS232/485.
Il modulo Arc Management è la soluzione ideale per il miglior controllo del processo al plasma. Un riconoscimento mirato degli archi garantisce la massima produttività possibile e protegge contemporaneamente il prodotto e l'impianto.
Software di comando grafico
Le complesse rappresentazioni grafiche permettono un controllo completo di tutti i parametri di processo di rilievo. Le impedenze del carico e della matchbox vengono visualizzate per mezzo della carta di Smith, mentre la potenza di ingresso e di uscita HF insieme alla frequenza e alla posizione della fase vengono visualizzate con l'ausilio di un oscilloscopio in tempo reale.
TruControl Power
Il software di comando di facile utilizzo TruControl Power permette una messa in funzione comoda ed un controllo sicuro del generatore HF o dell'intero sistema RF TRUMPF nel processo in esecuzione.
Le complesse rappresentazioni grafiche permettono un controllo completo di tutti i parametri di processo di rilievo. Le impedenze del carico e della matchbox vengono visualizzate per mezzo della carta di Smith, mentre la potenza di ingresso e di uscita HF insieme alla frequenza e alla posizione della fase vengono visualizzate con l'ausilio di un oscilloscopio in tempo reale.
Gli oscillatori master consentono di stabilizzare ed ottimizzare processi al plasma sincroni critici. Un sintetizzatore digitale di frequenza e di fase integrato garantisce un'elevata stabilità di frequenza e di fase e permette la regolazione della posizione della fase ad intervalli ridottissimi. Per la frequenza 13,56 MHz, come anche per diverse combinazioni di frequenze, sono disponibili diverse versioni di oscillatori master.
I commutatori ad alta frequenza permettono l'utilizzo multiplo di un generatore ad alta frequenza su diverse stazioni di processo al plasma, ad esempio per l'alimentazione elettrica di processi sequenziali oppure su sistemi con diversi punti di alimentazione. Sono disponibili diversi commutatori ad alta frequenza in due classi di potenza come anche con 2, 3 o 4 uscite.
Per la trasmissione della potenza ad alta frequenza, TRUMPF Hüttinger offre cavi coassiali sviluppati specificamente per l'impiego in sistemi da 50 ohm.
Gestione ottimale del processo al plasma
I processi al plasma si comportano come un carico complesso e variabile a cui il generatore deve fornire continuamente alimentazione elettrica. Ciò avviene tramite reti di adattamento attive, le cosiddette matchbox, che garantiscono un preciso adattamento all'impedenza ottimale di 50 ohm in qualsiasi momento. Nasce così un sistema perfettamente abbinato, il sistema RF TRUMPF. Le varie interfacce, come ad es. EtherCAT, consentono di integrare molto facilmente generatore e rete di adattamento nell'ambiente di processo esistente e ottenere una soluzione di sistema ottimizzata mediante una connessione intelligente tra generatore e rete di adattamento, la cosiddetta SystemPort.
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