Ország/régió és nyelv kiválasztása
TRUMPF Laser Amplifier nagy teljesítményű chipek gyártásához
CO2-lézer

A lézerimpulzussal megadja az alapot a jövő mikrochipjeinek gyártásához.

EUV litográfia a digitális korszak elősegítője

Az EUV litográfia megnyeri a jövő mikrochipjeinek gyártási módszerének versenyét. A félvezető gyártás ágazatban sok éve keresték a költséghatékony és tömeggyártásra alkalmas eljárást, amellyel még kisebb struktúrák világíthatók le a szilícium lapkákra. Az ASML, a Zeiss és a TRUMPF partnerekként kifejlesztettek egy technológiát, hogy az extrém ultraibolya (EUV), 13,5 nanométeres hullámhosszú fény ipari használatra alkalmas legyen: egy csepp-generátor egy vákuumkamrában másodpercenként 50 000 apró óncseppet csepegtet. Ezen cseppek mindegyikét éri az 50 000 lézerimpulzus valamelyike, és plazmává alakítja azt. Ezáltal EUV fény jön létre, amelyet tükörrel a levilágítandó lapkára irányítanak. A plazmasugárzáshoz való lézerimpulzust egy a TRUMPF által kifejlesztett, impulzusos CO2 lézerrendszer adja – ez a TRUMPF Laser Amplifier.

Néhány wattól 40 kilowattra

A TRUMPF Laser Amplifier a lézerimpulzust szekvenciálisan több mint a 10 000-szeresére erősíti fel.

Hatékony és folyamatbiztos

Egy elő- és fő impulzus kibocsátása révén a Laser Amplifier teljes teljesítménye átvihető az óncseppre.

A CO2 lézer új alkalmazása

A nagy teljesítményű lézerrendszer alapja a CO2 lézer folyamatos hullámú üzemben. Ezzel a TRUMPF a technológia új alkalmazását teremti meg.

Specialistákból álló hatalmas hálózat

A TRUMPF, az ASML és a ZEISS sokéves szoros együttműködésben iparéretté tette az EUV technológiát.

Munkadarabok

... Laser Amplifier-t tartalmaz.

Méter

... a kábelek a rendszerbe be vannak építve.

Kiló

... az össztömeget jelenti.

A TRUMPF Laser Amplifier központi komponensei

Ezek a témák is érdekelhetik Önt

EUV litográfia cikkgyűjtemény
A média tükrében: az EUV litográfia

Tudjon meg többet az EUV-litográfia témájáról a kiemelt cikkeink alapján a szak- és általános sajtóból.

Vizuális elektronika
Elektronika

A lézermegmunkálástól a kristálynövesztésig: a TRUMPF minden alapvető technológiát biztosít a nagy teljesítményű félvezetők gyártásához az elektronikai ágazatban.

CO2-lézer

Rendkívül megbízható akkor is, ha robusztusabbról van szó – a TRUMPF TruFlow CO2-lézerei gyártócsarnokokban vágnak és hegesztenek világszerte.

Kapcsolat
Hochleistungslasersysteme EUV-Lithografie
E-mail
Szerviz & kapcsolat