A média tükrében: az EUV litográfia

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
Link: zum Artikel

Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
Link: zum Artikel

A Golem.de ezen cikkében a szerző, Marc Sauter arról tudósít, hogy a Samsung Foundry befejezte az 5 nm-es eljárás fejlesztését  ultraibolyántúli sugárzással (EUV) , és mostantól fogadja az ügyfelek megrendeléseit. Az új eljárással a tranzisztorsűrűség 25%-kal növelhető és ezzel egyidejűleg a chipek teljesítményfelvétele 20%-kal alacsonyabb, ill. a számítási teljesítményük 10%-kal nagyobb.

Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2019. április
Link: a cikkhez

A heise.de arról számol be ebben a cikkben, hogy a Samsung 2018 őszén megkezdte a gyártást az első 7 nm-es gyárában, és ott az ASML EUV litográfia rendszerével világít le lapkákat. Forrás: www.heise.de
Szerző: Nico Ernst
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

A TRUMPF 2017/2018 évi üzleti jelentése rávilágít arra, hogy a fény – és ezzel a lézer és az EUV litográfia – kezelése a jövő olyan technológiáinak az alapja, mint a mesterséges intelligencia, az autonóm eljárás és a hálózatba kötött gyárak.

Forrás: TRUMPF 2017/2018 üzleti év üzleti jelentése
Szerző: TRUMPF GmbH + Co. KG
Megjelenés dátuma: 2018. október
Link: a cikkhez

A golem.de weblapon a cikk azt közli, hogy az ASML az NXW:3400B rendszereit olyan jelentős mértékben javította, hogy az extrém ultraibolya sugárzással történő, költség- és időtakarékos sorozatgyártás elérhető közelségbe került. Forrás: www.golem.de
Szerző: Marc Sauter
Megjelenés dátuma: 2018. július
Link: a cikkhez

A LaserFocusWorld ebben a cikkben az EUV technológia több mint húszéves fejlesztését ábrázolja, és leír számos olyan akadályt és kihívást, amelyet a 2015-ös áttörésig le kellett győzni.

Forrás: LaserFocusWorld
Szerző: Andreas Thoss
Megjelenés dátuma: 2017. november
Link: a cikkhez

Ez a "Produktion" szakfolyóiratban olvasható tudósítás a TRUMPF Access-ben való többségi tulajdonszerzésével foglalkozik. Low-Power-CO₂ lézerek gyártójaként az Access Laser a TRUMPF egyik legfontosabb partnere az EUV üzletben. Forrás: www.optics.org
Szerző: n.N.
Megjelenés dátuma: 2017. október
Link: a cikkhez

A Stuttgarter Zeitung arról számol be, hogyan száll be a TRUMPF a Laser Amplifier-rel beszállítóként a félvezető gyártásba, és hogy ehhez az üzlethez új leányvállalatot alapított. Forrás: Stuttgarter Zeitung
Szerző: Michael Heller
Megjelenés dátuma: 2017. május
Link: a cikkhez

A "Markt&Technik" elektronikai hetilap cikke az ASML aktuális és tervezett forgalmi és eladási számait foglalja össze, amelyek azt támasztják alá, hogy az EUV litográfia végleg megérkezett az iparba. Forrás: Markt&Technik
Szerző: Heinz Arnold
Megjelenés dátuma: 2017. július
Link: a cikkhez