La lithographie EUV dans l'œil des médias

Dieser Bericht des Handelsblatts ist anlässlich der im Mai 2019 veranstalteten, gemeinsamen Pressereise von TRUMPF, Zeiss und ASML entstanden. Die Autoren beleuchten die Zusammenarbeit der Partner, zeichnen die Entwicklung von EUV nach und geben mit Zitaten, unter anderem von Peter Leibinger, Chief Technologie Officer bei TRUMPF, Einblicke in das Potenzial der Zukunftstechnologie.

Quelle: Handelsblatt
Autor: Martin-W. Buchenau, Joachim Hofer
Erscheinungsdatum: 05/2019
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Die News auf optics.org berichtet, dass trotz zunehmender, makroökonomischer Unsicherheiten die Nachfrage nach Lithografiesystemen von ASML konstant bleibt. Schlüsselkunden wie Samsung und TSMC geben ihre Pläne für den Einsatz von EUV-Systemen in der zukünftigen Produktion von Chips bekannt. Diese werden für neue Anwendungen in den Bereichen 5G, künstliche Intelligenz, Hochleistungsrechnen und Automotive dringend gebraucht – wie Charlie Bae von Samsung schon lange vorhergesagt hat.

Quelle: www.optics.org
Autor: n.N.
Erscheinungsdatum: 04/2019
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Dans cet article du site Golem.de, l'auteur Marc Sauter indique que Samsung Foundry a parachevé le procédé 5 nm avec rayonnement extrême ultraviolet (EUV) et est en mesure de prendre dès à présent des commandes de ses clients. Ce nouveau procédé permet d'augmenter la densité de transistors de 25 % ; dans le même temps la puissance absorbée par les puces est 20 % plus faible et la puissance de calcul supérieure de 10 %.

Source : www.golem.de
Auteur : Marc Sauter
Date de publication : 04/2019
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Dans cet article, le site heise.de explique comment Samsung a lancé la production de son usine 7 nm à l'automne 2018, et y usine des plaquettes à l'aide du système de lithographie EUV d'ASML. Source : www.heise.de
Auteur : Nico Ernst
Date de publication : 10/2018
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Le rapport d'activité TRUMPF 2017/2018 souligne comment la maîtrise de la lumière – et donc celle du laser et de la lithographie EUV – est à la base de technologies d'avenir telles que l'intelligence artificielle, la conduite autonome et les usines en réseau.

Source : rapport d'activité TRUMPF, exercice 2017/2018
Auteur : TRUMPF GmbH + Co. KG
Date de publication : 10/2018
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Cet article du site golem.de annonce qu'ASML a perfectionné ses systèmes NXW:3400B au point qu'une fabrication en série efficace en termes de coûts et de temps, utilisant le rayonnement extrême ultraviolet, est désormais possible à brève échéance. Source : www.golem.de
Auteur : Marc Sauter
Date de publication : 07/2018
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LaserFocusWorld retrace dans cet article plus de vingt ans de développement de la technologie EUV et décrit les nombreux défis et difficultés qu'il a fallu surmonter jusqu'à la percée de 2015.

Source : LaserFocusWorld
Auteur : Andreas Thoss
Date de publication : 11/2017
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Ce reportage du magazine spécialisé "Produktion" porte sur la prise de participation majoritaire de TRUMPF dans Access. En tant que fabricant de lasers CO₂ basse puissance, Access Laser est l'un des partenaires les plus importants de TRUMPF pour l'activité EUV. Source : www.optics.org
Auteur : non cité
Date de publication : 10/2017
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La Stuttgarter Zeitung raconte comment TRUMPF arrive dans l'industrie des semi-conducteurs en tant que sous-traitant avec son amplificateur laser, et comment il a créé une nouvelle filiale consacrée à cette activité. Source : Stuttgarter Zeitung
Auteur : Michael Heller
Date de publication : 05/2017
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Cet article de l'hebdomadaire consacré à l'électronique "Markt&Technik" reprend les chiffres d'affaires et de ventes, actuels et prévisionnels, d'ASML, qui démontrent que la lithographie EUV fait désormais partie intégrante de l'industrie. Source : Markt&Technik
Auteur : Heinz Arnold
Date de publication : 07/2017
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