Générateurs HF de nouvelle génération
Une alimentation électrique du plasma stable et reproductible est d'une importance décisive pour le revêtement ou la structuration des surfaces. Les générateurs HF de la gamme TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) et leur électronique de puissance moderne offrent ici les meilleures conditions préalables : grâce à la stabilité de leur puissance de sortie et à leur grande précision de réglage, ils vous garantissent à la fois les meilleurs résultats et une productivité élevée.
Technologie CombineLine : une puissance de processus optimale grâce à une véritable impédance de sortie de 50 ohms.
Plus besoin d'adapter la longueur des câbles – une nouveauté absolue dans le domaine HF !
Technologie CombineLine : une protection fiable contre la puissance réfléchie en cas de désadaptation.
Grâce à des rendements maximaux de 80 %, la réduction de vos coûts énergétiques peut atteindre 50 %.
Aucun réchauffement ni pollution de l'air ambiant : le système est utilisable en salle blanche.
Idéal pour le revêtement des écrans plats
Les générateurs HF de la gamme TruPlasma Série RF 1000 / 3000 (G2/13) conviennent parfaitement pour les procédés plasma tels que RIE, ALD, PECVD et la pulvérisation RF. Ces procédés sont notamment utilisés pour la fabrication d'éléments semi-conducteurs et de microsystèmes électromécaniques (MEMS) ou pour le revêtement des écrans plats et des cellules photovoltaïques.
Domaine d'utilisation typique : l'industrie solaire
Les domaines d'utilisation typiques des gammes TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) sont les processus exigeants de l'industrie solaire (PECVD, gravure et pulvérisation HF).
Fabrication de semi-conducteurs
Différents processus par plasma sont utilisés pour la fabrication de semi-conducteurs, des procédés d'enlèvement de matière par gravure à sec jusqu'à la fusion de zone pour la production de silicium pur. Les générateurs TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) offrent toutes les conditions requises pour une alimentation électrique stable et adaptée de manière optimale à votre processus. Ils vous permettent ainsi d'obtenir des résultats excellents et reproductibles.
Adaptation optimale à votre processus
L'adaptation intelligente en temps réel des appareils TruPlasma RF Série 1000 / 3000 (G2/13) permet un réglage rapide et direct de l'impédance sur 50 ohms. La technologie brevetée CombineLine empêche de manière fiable les fluctuations du plasma et le dégagement d'impuretés, et le concept de refroidissement sans ventilateur réduit le taux d'apparition de défaillances, augmente l'efficacité et permet une utilisation en salle blanche.
Efficacité et flexibilité maximales
Grâce aux rendements très élevés (jusqu'à 80 %), la réduction de vos coûts énergétiques peut atteindre 50 % par rapport aux générateurs classiques. Les nombreuses interfaces disponibles (interface analogique configurable, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) facilitent l'intégration dans des installations existantes. Les blocs d'alimentation à plage ultralarge (200-480 VAC) rendent toute modification technique superflue. Le modèle, compact malgré sa grande densité de puissance (tiroir enfichable de 19 pouces ou 19 pouces ½), peut être intégré à n'importe quelle installation de production dans un minimum d'espace.
TRUMPF SystemPort
SystemPort permet la formation d'un circuit de régulation fermé grâce à la mesure du signal RF directement à l'entrée et à la sortie du réseau adaptatif. L'ensemble des valeurs de mesure est à la disposition du générateur RF. Cela permet de mieux surveiller les paramètres de processus, de protéger le réseau adaptatif et de garantir une identification d'arc précoce. Il est donc possible de commander l'ensemble du système RF via une seule interface de générateur.
Différentes options vous permettent d'adapter le générateur HF de manière optimale à votre application.
La solution brevetée Auto Frequency Tuning permet une adaptation simultanée et rapide de la fréquence et garantit une synergie parfaite entre le générateur et le réseau adaptatif. Grâce à cette technique brevetée, un minimum local ne constitue plus un obstacle : le système RF est amené à son optimum, ce qui permet d'obtenir les meilleurs résultats de processus et une reproductibilité élevée.
Ce système élaboré de gestion de l'arc est le module de contrôle idéal pour les processus plasma. L'identification ciblée des arcs garantit une productivité maximale tout en protégeant le produit et l'installation.
Tous les composants du système RF de TRUMPF sont parfaitement ajustés les uns aux autres.
Parfaitement harmonisé : le système TRUMPF RF
Les processus par plasma se comportent comme une charge variable complexe qui doit être continuellement actualisée par le générateur. Cette fonction est assurée par des réseaux adaptatifs actifs, qui garantissent à tout moment une adaptation précise à l'impédance optimale de 50 ohms. On obtient ainsi une solution intégrée parfaitement harmonisée : le système TRUMPF RF. Différentes interfaces, notamment EtherCAT, vous permettent d'intégrer très facilement le générateur et le réseau adaptatif à votre environnement existant, et d'obtenir une solution optimisée grâce à une liaison générateur-réseau adaptatif intelligente appelée SystemPort.
Il peut y avoir des différences par rapport à cette gamme de produits et à ces indications dans certains pays. Sous réserve de modification de la technologie, de l’équipement, du prix et de l’offre d’accessoires. Veuillez contacter votre interlocuteur local, afin de savoir si le produit est disponible dans votre pays.
