Le High Power Seed Module (HPSM) se compose de deux lasers d'amorçage, qui produisent des impulsions de sortie de quelques watts seulement, ainsi que d'une multitude de composants optiques actifs et passifs qui forment le faisceau laser et optimisent la durée d'impulsion. Un premier amplificateur pré-amplifie la lumière à une valeur de l'ordre de 100 W. Les lasers d'amorçage sont protégés de manière optimale contre les rétroréflexions par des mécanismes de protection, ce qui augmente de manière décisive la stabilité du système global et permet d'atteindre la puissance EUV constante requise.

La High Power Amplification Chain (HPAC) se compose de quatre cavités laser servant à augmenter la puissance, reliées entre elles par des éléments de guidage du faisceau. Chaque cavité est optimisée pour un certain niveau d'amplification (par ex. soufflante, pompage RF, mélange du gaz, guidage du faisceau). Trois circuits de refroidissement différents garantissent la stabilité nécessaire du système. Des impulsions courtes permettent d'obtenir un pic de puissance de sortie extrêmement élevé sur la plage MW. Une fonction de métrologie en ligne complète permet un suivi permanent du faisceau.

Le Beam Transport System (BTS) – qui se compose d'une plaque d'embase, d'un périscope et de miroirs – transporte le faisceau laser sur un maximum de 30 mètres jusqu'à la chambre où sont émises les gouttelettes. La stabilité mécanique du système, exposé à une puissance élevée, comme l'étanchéité du guidage du faisceau, jouent un rôle décisif pour limiter l'absorption et l'encrassement. Les miroirs sont dotés d'un revêtement spécial afin d'absorber le moins de lumière laser possible.

Le FFA comprend deux parties : une plateforme optique et une unité de focalisation. Pour générer un éclair de plasma parfait, il faut que l'impulsion laser entre en contact avec la quasi totalité de la goutte d'étain. Toutefois, comme la goutte d'étain est plus petite que le diamètre du faisceau laser, la plateforme optique distingue une pré-impulsion de l'impulsion principale et conditionne les deux parties pour obtenir une génération EUV optimale. La pré-impulsion atteint d'abord la goutte d'étain avec une puissance pulsée réduite, de sorte que la goutte se dilate en forme de disque, accroissant sa surface. L'impulsion principale qui suit est absorbée par la pellicule liquide ainsi formée, produisant le plasma proprement dit, lequel dégage le rayonnement EUV. Les 40 kilowatts de puissance laser sont ainsi utilisés de manière efficace, et garantissent une production d'éclairs de plasma fiable pour l'exposition. L'unité de focalisation focalise la lumière laser de manière optimale sur la goutte d'étain.