Garants d'excellents résultats de processus
Avec ces générateurs HF, vous optez pour la sécurité : les appareils de la gamme TruPlasma RF Série 3000 se distinguent par leur construction robuste et leur grande efficacité. Ils conviennent donc parfaitement pour des processus plasma stables et reproductibles, tels que ceux utilisés par exemple pour la fabrication d'écrans plats, de cellules photovoltaïques ou de semi-conducteurs. Installés dans des milliers d'application dans le monde, ces générateurs garantissent une productivité élevée et des résultats de processus exceptionnels.
Grâce à des rendements maximaux de 80 %, la réduction de vos coûts énergétiques peut atteindre 50 %.
Pilotage sûr y compris de processus exigeants et originaux.
Technologie CombineLine : une protection fiable contre les puissances réfléchies en cas de désadaptation.
Production de puissance continue ou pulsée, ce qui permet des utilisations très variées.
Processus de gravure et de revêtement
Les générateurs haute fréquence TruPlasma RF Série 3000 sont appropriés en particulier pour les processus de revêtement et de gravure, par ex. gravure par plasma, gravure ionique réactive, ALD et PECVD.
Revêtement de pièces métalliques
Les procédés plasma permettent à la fois d'appliquer et d'enlever du matériau sur des surfaces, par exemple pour l'application d'un revêtement anti-usure sur des pièces métalliques ou la structuration d'éléments électroniques par gravure au plasma ou par la calcination au plasma de résine photosensible.
Revêtement d'écrans plats et de cellules photovoltaïques
Les générateurs HF de la gamme TruPlasma RF Série 3000 conviennent parfaitement pour les procédés plasma tels que RIE, ALD, PECVD et la pulvérisation RF. Ces procédés sont notamment utilisés pour le revêtement des écrans plats et des cellules photovoltaïques.
Efficacité et stabilité de processus maximales
Vous minimisez vos coûts d'exploitation grâce à une diminution de moitié de la perte de puissance et à la réduction des besoins en eau de refroidissement permise par un rendement excellent. La construction très robuste des générateurs autorise des temps de fonctionnement plus longs, même pour des processus critiques, et ainsi des vitesses de revêtement supérieures. La fluctuations du plasma sont empêchées de manière efficace par la technologie CombineLine avec une impédance de sortie de 50 ohms, ce qui rend possible des processus absolument stables.
Sécurité dans toutes les circonstances
La construction robuste garantit une fiabilité et une productivité maximales de votre processus. Une protection à 100 % contre les désadaptations garantit un fonctionnement sûr, y compris en cas de charges critiques. La fourniture de puissance au choix continue ou pulsée prend en charge une gamme d'exigences de processus. Plus de 20.000 unités sont déjà installées à travers le monde, plus que de toute autre alimentation électrique à plasma.
TRUMPF SystemPort
SystemPort permet la formation d'un circuit de régulation fermé grâce à la mesure du signal RF directement à l'entrée et à la sortie du réseau adaptatif. L'ensemble des valeurs de mesure est à la disposition du générateur RF. Cela permet de mieux surveiller les paramètres de processus, de protéger le réseau adaptatif et de garantir une identification d'arc précoce. Il est donc possible de commander l'ensemble du système RF via une seule interface de générateur.
Diverses options vous permettent une adaptation optimale du générateur HF pulsé à votre application.
Ce système élaboré de gestion de l'arc est le module de contrôle idéal pour les processus plasma. L'identification ciblée des arcs garantit une productivité maximale tout en protégeant le produit et l'installation.
TruControl Power
Le logiciel de commande convivial TruControl Power autorise une mise en service confortable et une surveillance sûre du générateur HF ou du système RF TRUMP complet en cours de processus.
Tous les composants du système RF de TRUMPF sont parfaitement ajustés les uns aux autres.
Générateur et réseau adaptatif parfaitement ajustés l'un à l'autre
Les processus par plasma se comportent comme une charge variable complexe qui doit être continuellement actualisée par le générateur. Cette fonction est assurée par des réseaux adaptatifs actifs, qui garantissent à tout moment une adaptation précise à l'impédance optimale de 50 ohms. On obtient ainsi une solution intégrée parfaitement harmonisée : le système TRUMPF RF. Différentes interfaces, notamment EtherCAT, vous permettent d'intégrer très facilement le générateur et le réseau adaptatif à votre environnement existant, et d'obtenir une solution optimisée grâce à une liaison générateur-réseau adaptatif intelligente appelée SystemPort.
Il peut y avoir des différences par rapport à cette gamme de produits et à ces indications dans certains pays. Sous réserve de modification de la technologie, de l’équipement, du prix et de l’offre d’accessoires. Veuillez contacter votre interlocuteur local, afin de savoir si le produit est disponible dans votre pays.
