Generadores de AF de la nueva generación
Durante el recubrimiento o la estructuración de superficies, es crucial contar con un suministro de plasma estable y reproducible. Los generadores de AF de la TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13), equipados con una avanzada electrónica de potencia, satisfacen perfectamente este requisito: gracias a su potencia de salida estable y a su elevada precisión de regulación, le garantizan unos resultados óptimos acompañados de un alta productividad.
Tecnología CombineLine: potencia de proceso óptima gracias a la impedancia de salida real de 50 ohmios.
Ya no es necesario adaptar la longitud del cable, ¡toda una novedad en el campo de la alta frecuencia!
Tecnología CombineLine: protección fiable contra potencia reflejada en caso de maladaptación.
Los grados de rendimiento de hasta el 80 % permiten una reducción de los costes energéticos de hasta el 50 %.
Sin calentamiento o suciedad del aire ambiente y, gracias a ello, posibilidad de funcionamiento en una sala blanca.
Ideal para el recubrimiento de pantallas planas
Los generadores de AF de la TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) están perfectamente indicados para procesos de plasma tales como RIE, ALD, PECVD y pulverización catódica por radiofrecuencia. Estos procesos se utilizan para la fabricación de, entre otros, componentes de semiconductores y sistemas microelectromecánicos (MEMS), así como para el recubrimiento de pantallas planas y células solares.
Ámbito de aplicación típico: la industria solar
Los ámbitos de aplicación típicos de la TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) son procesos de PECVD, de grabado y de pulverización iónica de AF en la industria solar.
Fabricación de semiconductores
En la fabricación de semiconductores se utilizan diferentes procesos de plasma, como procesos de abrasión, de grabación en seco o la fundición de zonas para la fabricación de silicio puro. Los generadores de la TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) ofrecen todos los requisitos para una alimentación eléctrica adecuada, estable y óptima en los procesos correspondientes, para que usted obtenga unos resultados excelentes y reproducibles.
Adaptación óptima a su proceso
La adaptación inteligente a tiempo real de TruPlasma RF Serie 1000 / 3000 (G2/13) garantiza una adaptación rápida y directa de la impedancia a 50 ohmios. Gracias a la tecnología patentada CombineLine, las oscilaciones de plasma y la suciedad se evitan fiablemente, el concepto de refrigeración sin ventilador reduce la tasa de fallos, aumenta la eficiencia y permite la aplicación en salas blancas.
Eficiencia y flexibilidad máximas
Gracias a los grados de rendimiento extremadamente elevados de hasta el 80 %, reducirá en hasta un 50 % sus costes energéticos en comparación con los generadores convencionales. Las numerosas interfaces disponibles (interfaz analógica configurable, RS 232/485, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT) simplifican la integración en instalaciones existentes; gracias a las fuentes de alimentación de ultraamplio espectro (200-480 VAC), no son necesarias adaptaciones técnicas. El diseño compacto a pesar de la alta intensidad de la radiación (unidad enchufable de 19 pulgadas o de ½-19 pulgadas) permite una integración espacialmente económica en cualquier planta de producción.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.
Diversas opciones le permiten adaptar perfectamente el generador de AF a su aplicación.
La solución patentada Auto Frequency Tuning posibilita una adaptación de la frecuencia simultánea y rápida, y garantiza una interacción óptima entre el generador y la matchbox. Mediante esta tecnología patentada, un mínimo local deja de ser un obstáculo: el sistema RF se lleva al grado óptimo y así, permite los mejores resultados de proceso con una alta reproducibilidad.
La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.
Todos los componentes del sistema RF TRUMPF están perfectamente armonizados entre sí.
Perfectamente armonizado: el sistema TRUMPF RF
Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.
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