Garantía de resultados de proceso excelentes
Con este generador de AF va siempre sobre seguro: la TruPlasma RF Serie 3000 destaca por un diseño robusto y una alta eficiencia. Por ello, es el más adecuado para procesos de plasma estables y reproducibles, como los que se emplean, por ejemplo, para la fabricación de pantallas planas, células solares o semiconductores. En miles de aplicaciones instaladas en todo el mundo, estos generadores garantizan una alta productividad y unos excelentes resultados de proceso.
Los grados de rendimiento de hasta el 80 % permiten una reducción de los costes energéticos de hasta el 50 %.
Desarrollo seguro incluso de procesos exigentes y novedosos.
Tecnología CombineLine: protección fiable contra potencias reflejadas en caso de maladaptación.
Emisión de potencia continua o por impulsos que confiere gran versatilidad.
Procesos de aplicación de capas y de grabado
Los generadores de alta frecuencia de la TruPlasma RF Serie 3000 son aptos, especialmente, para procesos de grabado y de aplicación de capa como, por ejemplo, el grabado de plasma, grabado iónico reactivo, ALD y PECVD.
Recubrimiento de piezas de metal
Mediante procesos de plasma es posible tanto aplicar material sobre superficies como eliminarlo, por ejemplo, en el recubrimiento de piezas de trabajo metálicas con una capa protectora contra el desgaste o para la estructuración de componentes electrónicos mediante ataque por plasma o calcinación por plasma de resina fotorresistente.
Recubrimiento de pantallas planas y células solares
Los generadores de AF de la TruPlasma RF Serie 3000 están perfectamente indicados para procesos de plasma tales como RIE, ALD, PECVD y pulverización catódica por radiofrecuencia. Estos procesos se utilizan, entre otras cosas, para el recubrimiento de pantallas planas y células solares.
Alta eficiencia y estabilidad de proceso
Reducción a la mitad de la pérdida de potencia y disminución de los gastos de agua de refrigeración mediante un grado de rendimiento excelente: así minimizará sus costes de servicio. El diseño robusto de los generadores permite tiempos de funcionamiento más largos incluso en procesos críticos y, por lo tanto, tasas de recubrimiento más altas. Las oscilaciones de plasma se pueden evitar eficazmente con la tecnología CombineLine con impedancia de salida real de 50 ohmios: así se consiguen procesos completamente estables.
Seguridad en todo momento
El diseño robusto proporciona una eficacia y productividad máximas de su proceso. La protección absoluta contra una adaptación errónea garantiza un funcionamiento seguro incluso con cargas críticas. La potencia de salida continua o de pulso opcional satisface una gran diversidad de requerimientos al proceso. Se han instalado más de 20 000 unidades en todo el mundo, más que de cualquier otra alimentación eléctrica de plasma.
TRUMPF SystemPort
La SystemPort posibilita un circuito regulador cerrado mediante la medición de la señal RF directamente en la entrada y la salida de la matchbox. El generador RF tiene disponibles todos los valores de medición. Así, pueden vigilarse mejor los parámetros de proceso, protegerse la matchbox y garantizarse una detección de arco temprana. El sistema RF completo también puede controlarse mediante una sola interfaz de generador.
Diversas opciones le permiten adaptar perfectamente el generador de AF a su aplicación.
La sofisticada gestión de arco es el módulo ideal para el mejor control del proceso de plasma. Una detección de arco selectiva garantiza la máxima productividad posible y protege al mismo tiempo el producto y la instalación.
TruControl Power
El software de mando TruControl Power, de fácil manejo, permite una puesta en funcionamiento confortable y una supervisión segura del generador de AF o del sistema RF TRUMPF durante el proceso en marcha.
Todos los componentes del sistema RF TRUMPF están perfectamente armonizados entre sí.
Perfectamente armonizados entre sí: generador y matchbox
Los procesos de plasma se comportan como una carga compleja y variable, cuya alimentación eléctrica debe ser seguida continuamente a través del generador. Esto lo realizan que las redes de adaptación, llamadas matchboxes, que en todo momento garantizan una adaptación precisa a la impedancia óptima de 50 ohmios. De este modo surge una solución de sistema perfectamente armonizada entre sí: el sistema TRUMPF RF. Mediante diversas interfaces como EtherCAT, es posible integrar el generador y la matchbox de forma fácil en los entornos de proceso existentes y, con una conexión inteligente entre generador y matchbox, la llamada SystemPort, lograr una solución de sistema optimizada.
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